真空鍍膜主要利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材du(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來(lái)的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氣離子化,造成靶與氣離子間的撞擊機(jī)率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽(yáng)離子會(huì)加速?zèng)_向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個(gè)沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。

?真空鍍膜真空五金鍍膜

真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理氣相沉積工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧ぃ室卜Q真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料超為常見(jiàn)，其次，為紙張鍍膜。相對(duì)于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來(lái)源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢(shì)，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應(yīng)用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領(lǐng)域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、性低等缺陷，如在塑料表面蒸鍍一層金屬薄膜，即可賦予塑料程亮的金屬外觀，合適的金屬源還可大大增加材料表面性能，大大拓寬了塑料的裝飾性和應(yīng)用范圍。

對(duì)于真空鍍膜加工單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因

主要是由于基片凹凸嚴(yán)重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。?

另外鏡片被鏡圈（）邊緣部遮擋、鏡圈（）臟在蒸鍍時(shí)污染鏡片等等也會(huì)造成膜色差異問(wèn)題。?

改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。

改善對(duì)策：?

㈠?條件許可，用行星夾具；?

㈡?選用傘片平坦（R大）的機(jī)臺(tái)；?

㈢?根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專門(mén)的鋸齒形修正板。?

㈣?如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動(dòng)，也可改善單片的膜色均勻性。?㈤?改善鏡圈（），防止遮擋。?

㈥?注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對(duì)邊緣鏡片的部分遮擋?㈦?清潔鏡圈（）?㈧?改善膜料蒸發(fā)狀況。