對(duì)比

滲碳

氮化

目的

提高工件表面硬度、耐磨性及疲勞強(qiáng)度，同時(shí)保持心部良好的韌性。提高工件表面硬度、耐磨性及疲勞強(qiáng)度，提高耐蝕性。

用材

含0.1-0.25%C的低碳鋼。碳高則心部韌性降低。為含Cr、Mo、Al、Ti、V的中碳鋼。常用方法

氣體滲碳法、固體滲碳法、真空滲碳法

氣體氮化法、離子氮化法

溫度

900～950℃

500～570℃

表面厚度

一般為0.5～2mm不超過(guò)0.6～0.7mm用途

廣泛用于飛機(jī)﹑汽車(chē)和拖拉機(jī)等的機(jī)械零件﹐如齒輪﹑軸﹑凸輪軸等。用于耐磨性、精度要求高的零件及耐熱、耐磨及耐蝕件。如儀表的小軸、輕載齒輪及重要的曲軸等。

熱噴涂是將金屬或非金屬材料加熱熔化，靠壓縮氣體連續(xù)吹噴到制件表面上，形成與基體牢固結(jié)合的涂層，從制件表層獲得所需要的物理化學(xué)性能。

利用熱噴涂技術(shù)可改善材料的耐磨性、耐蝕性、耐熱性及絕緣性等。

應(yīng)用：航空航天、原子能、電子等技術(shù)在內(nèi)的幾乎所有領(lǐng)域。

真空鍍，就是在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在金屬表面沉積各種金屬和非金屬薄膜的表面處理工藝。

通過(guò)真空鍍的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快、附著力好、污染物少等優(yōu)點(diǎn)。

真空濺射鍍?cè)?/span>

按照工藝不同，真空鍍可以分為真空蒸鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍。

電鍍是一種電化學(xué)和氧化還原的過(guò)程。以鍍鎳為例：將金屬制件浸在金屬鹽（NiSO4）的溶液中作為陰極，金屬鎳板作為陽(yáng)極，接通直流電源后再制件上就會(huì)沉積出金屬鍍鎳層。

電鍍方法分為普通電鍍和特種電鍍。

氣相沉積

化學(xué)氣相沉積（CVD）

化學(xué)氣相沉積是指在一定溫度下，混合氣體與基體表面相互作用而在基體表面形成金屬或化合物薄膜的方法。

由于化學(xué)氣相沉積膜層具有良好的耐磨性、耐蝕性、耐熱性及電學(xué)、光學(xué)等特殊性能，已被廣泛用于機(jī)械制造、航空航天、交通運(yùn)輸、煤化工等工業(yè)領(lǐng)域。

裝飾性

金屬材料由于本身特性，會(huì)隨著時(shí)間、環(huán)境的變化產(chǎn)生銹蝕等變化，失去金屬本身的光澤。表面處理可賦予金屬材料表面一定的光亮度、色彩度和花紋圖案，對(duì)金屬表面起到美化效果。如激光雕刻、光化學(xué)腐蝕、金屬壓花以及各種表面噴涂等。甚至在一些特殊的金屬裝備表面可以應(yīng)用表面處理技術(shù)，使其表面有效消除反光或吸收光線以利于隱蔽。