柔性電子卷繞真空鍍膜設(shè)備

HCFLC系列卷繞鍍膜設(shè)備為各種各樣的柔性和可穿戴電子產(chǎn)品，傳感器，RFID標(biāo)簽，智能玻璃，智能包裝等提供了一種非常有競(jìng)爭(zhēng)力和成本效益高的薄膜涂層技術(shù)。高質(zhì)量低電阻率銅或TCO層和結(jié)構(gòu)的應(yīng)用，在滿足當(dāng)今和未來(lái)市場(chǎng)需求的同時(shí)，成功地彌合了生產(chǎn)率和多功能性之間的差距。

HCFLC系列是生產(chǎn)和研發(fā)的良好選擇。幾乎無(wú)限的可能性，在安排多達(dá)六組可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)器和機(jī)器的能力，應(yīng)用大量的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量傳感器，使機(jī)器能夠在生產(chǎn)環(huán)境中生產(chǎn)，同時(shí)又是非常靈活和靈活的，當(dāng)作為一個(gè)研發(fā)機(jī)器使用。

這也使得該機(jī)成為諸如ITO膜、柔性印刷電路板（FPCB）、LOW-E或智能玻璃等應(yīng)用的?？尚D(zhuǎn)磁控管，涂層寬度為2000毫米，可能的襯底輥直徑為500毫米，是高生產(chǎn)率的基礎(chǔ)。

此外，相鄰工藝段之間的可選氣體分離允許在一個(gè)過(guò)程中沉積各種各樣的金屬和電介質(zhì)層。

除了能夠在非反應(yīng)濺射工藝的同時(shí)運(yùn)行反應(yīng)濺射工藝外，HCFLC系列還可以配備各種原位傳感器，用于連續(xù)、準(zhǔn)確地監(jiān)測(cè)所需的物理層特性，如層電阻率、反射率或透射比。

適合于真空對(duì)潔凈環(huán)境的要求

適合于真空對(duì)潔凈環(huán)境的要求 工業(yè)環(huán)境中的粉塵是以粉狀體、眼無(wú)題、粉塵來(lái)區(qū)分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態(tài)的物質(zhì)。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合，而顆粒是指能夠一個(gè)一個(gè)計(jì)數(shù)的微小物質(zhì)。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態(tài)存在于氣體中的物質(zhì)體系。物質(zhì)無(wú)論是固體還是液體，凡是呈顆粒狀態(tài)均可統(tǒng)稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來(lái)確定空氣清潔度的標(biāo)準(zhǔn)，從而定制出潔凈室的等級(jí)。不僅適合于有潔凈要求的工業(yè)部門，也適合于真空對(duì)潔凈環(huán)境的要求。

鍍膜機(jī)的鍍膜方式及遇到的問題

鍍膜機(jī)的鍍膜方式及遇到的問題 鍍膜機(jī)是在高真空狀態(tài)下通過(guò)高溫金屬熔體鋁蒸發(fā)，鋁蒸鍍到塑料薄膜的表面上，使金屬設(shè)備表面的塑料薄膜。真空鍍膜機(jī)技術(shù)作為一種特定的膜技術(shù)，已廣泛應(yīng)用于實(shí)際生產(chǎn)和生活。 鍍膜機(jī)涂布方法：離子鍍，濺射沉積（1）鍍膜機(jī)：快速成膜0.1—50／min，設(shè)備比較簡(jiǎn)單，容易操作；純度高，制備的薄膜；薄膜生長(zhǎng)機(jī)制比較簡(jiǎn)單。（2）薄膜的附著力較小，結(jié)晶過(guò)程是不的，重復(fù)性不夠好。 鍍膜機(jī)鍍產(chǎn)品脫膜是怎么回事？一、.產(chǎn)品的表面清潔度是不夠的，離子源清潔放大的長(zhǎng)時(shí)間。二、用清洗劑清洗，或更換清潔劑，鍍膜機(jī)建議使用純凈水試驗(yàn)。三、工藝參數(shù)的變化是否可以在薄膜的厚度和電流進(jìn)行調(diào)整。