連續(xù)式磁控濺射鍍膜設備

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET、PC等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機廠家可按用戶要求提供設計，提供全套設備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務。

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機廠家可按用戶要求提供設計，提供全套鍍膜設備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務。

優(yōu)勢：設備模組化設計，易拆卸，維修，保養(yǎng)；高靶材利用率；高生產(chǎn)力及產(chǎn)品良率；環(huán)保制程無污染及環(huán)保問題；高客制化兼顧產(chǎn)品規(guī)格與低投資成本需求；整廠輸出：單片式玻璃觸控面板整廠輸出；CIGS整廠輸出；整廠輸出；卷對卷ITO膜整廠輸出；太陽能整廠輸出；電致變色整廠輸出；

柔性電子卷繞真空鍍膜設備

HCFLC系列卷繞鍍膜設備為各種各樣的柔性和可穿戴電子產(chǎn)品，傳感器，RFID標簽，智能玻璃，智能包裝等提供了一種非常有競爭力和成本效益高的薄膜涂層技術。高質(zhì)量低電阻率銅或TCO層和結構的應用，在滿足當今和未來市場需求的同時，成功地彌合了生產(chǎn)率和多功能性之間的差距。

HCFLC系列是生產(chǎn)和研發(fā)的良好選擇。幾乎無限的可能性，在安排多達六組可旋轉的旋轉器和機器的能力，應用大量的現(xiàn)場測量傳感器，使機器能夠在生產(chǎn)環(huán)境中生產(chǎn)，同時又是非常靈活和靈活的，當作為一個研發(fā)機器使用。

這也使得該機成為諸如ITO膜、柔性印刷電路板（FPCB）、LOW-E或智能玻璃等應用的?？尚D磁控管，涂層寬度為2000毫米，可能的襯底輥直徑為500毫米，是高生產(chǎn)率的基礎。

此外，相鄰工藝段之間的可選氣體分離允許在一個過程中沉積各種各樣的金屬和電介質(zhì)層。

除了能夠在非反應濺射工藝的同時運行反應濺射工藝外，HCFLC系列還可以配備各種原位傳感器，用于連續(xù)、準確地監(jiān)測所需的物理層特性，如層電阻率、反射率或透射比。

PVD能鍍出哪些顏色呢？

我們生活離不開炫彩靚麗的工具和物件，然后這些看起來視覺效果美觀的工具和物件，都是通過鍍了一層薄薄的膜，才能實現(xiàn)這樣的效果，大到飛機、航母，小到家庭餐具、手表，可以說鍍膜工藝，無處不在。隨著人們的生活水平不斷的提高，對鍍膜工藝要求也就越來越高。之前鍍膜是通過傳統(tǒng)的水鍍方式來實現(xiàn)的，現(xiàn)在PVD真空磁控濺射鍍膜機鍍膜工藝，被更多的人認可和追隨。有很多人很疑惑，為什么PVD真空鍍膜被那么多人認可，它到底有什么優(yōu)勢？

據(jù)了解PVD鍍膜機鍍膜工藝目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。在鍍膜的過程中通過調(diào)控相關參數(shù)，可以控制鍍出的顏色;鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色值進行測量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。

鍍膜設備工藝要求

鍍膜設備工藝要求： 真空度不得低于103PA，避免呈現(xiàn)褐色條紋或鋁層厚度不均表象;操控好體系張力，敞開冷卻體系，避免薄膜受熱呈現(xiàn)拉伸變形;準確操控卷取速度(280～320m/min)、送鋁速度(0.4～0.7m/min?2mm鋁絲)及蒸騰舟加熱電流，以取得商品請求的鋁層厚度(100～300A°);可預先在薄膜上涂布必定干量的底膠，并充沛枯燥，再經(jīng)真空鍍鋁，可進步鋁層與薄膜的結合力。然后在鋁膜上涂布必定量的維護樹脂，避免鋁層氧化蛻變。經(jīng)此技術構成的鍍鋁薄膜，耐摩擦，且不易蛻變。