金屬首飾真空鍍膜機特點：

1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，擴大在陰極表面磁場接近工件表面，以增加濺射原子的電離率。它保留了磁控濺射的細膩和光澤度增加。2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，能夠根據(jù)工作電流30A時，優(yōu)化陰極和磁場結(jié)構(gòu)涂層，涂膜和基材界面產(chǎn)生原子擴散，再加上離子束輔助功能沉積。

應(yīng)用行業(yè)：設(shè)備被廣泛應(yīng)用于IPG的時鐘，IPS手表和鐘表，的IP，手機外殼，五金，潔具，刀具，防摩擦的工具，模具和模具等，它可以制備TiN，TiCN涂層，氮化TIALN，TiNbu，TiCrN，氮化鋯，各類鉆石薄膜（DLC）。

汽車發(fā)動機部件涂層設(shè)備

至成鍍膜機廠家碳基的汽車發(fā)動機部件涂層設(shè)備DLC涂層應(yīng)用于閥門和曲軸區(qū)域零部件，可減少高達40%的潤滑操作中的摩擦損失。優(yōu)良的干潤滑性能也彌補了減少的潤滑劑，直到油膜達到滿負荷并允許在沒有磨損情況下頻繁的啟停。

汽車發(fā)動機部件涂層真空鍍膜機通過降低摩擦和磨損服務(wù)于高負荷和高應(yīng)力部件，在之前只能通過減少零部件的尺寸和減少部件組成和材料組合才能實現(xiàn)。這導(dǎo)致的材料和裝配成本的節(jié)省超過了涂層成本。

真空鍍膜機濺射鍍膜與蒸發(fā)鍍膜的區(qū)別：

蒸發(fā)鍍膜是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。

蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

濺射鍍膜可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。真空鍍膜機設(shè)備

濺射鍍膜又分為很多種，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。