真空鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的方法

真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi)，真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)，可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足，且各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝，在五金、機(jī)械、化工、模具、電子、儀器等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比，在技術(shù)上有哪些？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復(fù)利用，大大降低了成本。

2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時(shí)不經(jīng)任何處理。

PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝原理

PVD即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜。PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝原理分為以下三種情況：

（1）真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

（2）濺射鍍膜基本原理：充Ar（Ar）氣的真空條件下，使Ar氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)Ar（Ar）原子電離成Ar離子（Ar），Ar離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。

（3）離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

真空離子鍍膜設(shè)備的操作步驟是什么

在操作真空離子鍍膜設(shè)備時(shí)，請參閱設(shè)備規(guī)格、儀表板指針顯示和每個(gè)旋鈕下的標(biāo)記說明：檢查真空離子鍍膜設(shè)備操作控制開關(guān)處于“關(guān)閉”位置。打開主電源開關(guān)為設(shè)備供電。按“復(fù)位”和鈕復(fù)位整臺(tái)機(jī)器的控制電源。

啟動(dòng)水冷卻系統(tǒng)，連接真空離子鍍膜設(shè)備的冷卻水。操作臺(tái)上的控制方式選擇開關(guān)是以“自動(dòng)齒輪”保持泵VP1和VP2啟動(dòng)，助推器泵BP和擴(kuò)壓泵DP啟動(dòng)預(yù)熱，時(shí)間約60分鐘。將全纏繞鋁線送絲盤放入軸銷，然后安裝在支撐板上。

鋁線通過送絲輪和管道通到蒸發(fā)船的頂部，調(diào)整彈簧的張力，使壓輪不打滑地壓緊鋁絲，使鋁線順利運(yùn)輸。用石墨紙包裹蒸發(fā)舟的兩端，然后將其壓入電極。關(guān)閉蒸發(fā)罐擋板。基材卷筒安裝在卸料軸上，空卷筒安裝在收集器軸上，然后放卷座和卷軸座分別固定。調(diào)整基材和筒芯的位置，并將筒芯泵緊。

在觸摸屏主控制屏上設(shè)置真空離子鍍膜設(shè)備的卷繞參數(shù)，包括直徑、寬度、張力、停止直徑、卷繞速度、卷繞張力等。根據(jù)卷繞流程圖，從放電軸繪制基片，并將其纏繞到采集軸，并在操作過程中對薄膜進(jìn)行緊固和對齊。按下操作臺(tái)上的“收卷”按鈕，收卷系統(tǒng)按設(shè)定值進(jìn)入零速張力保持狀態(tài)，收卷系統(tǒng)將收卷物料。