真空鍍膜機(jī)的市場用途

很多消費(fèi)者對真空鍍膜機(jī)的概念不是很了解，不知道真空鍍膜機(jī)的市場用途，其實真空鍍膜機(jī)的衍生品有很多，而且都是與消費(fèi)者息息相關(guān)，求購鍍膜機(jī)的朋友一般從事如下行業(yè)：一類是以裝飾為主，突出其裝飾功能，常用在塑膠玩具禮品包裝的鍍膜，手機(jī)外殼，數(shù)碼產(chǎn)品外殼，視窗，瓷磚鍍金等。

另一類是以功能為主，突出鍍膜的功能用途。會被如下行業(yè)使用：太陽能集熱管、眼鏡和鏡片的增透高反，手機(jī)殼的防輻射屏蔽、刀具的加硬、模具加硬等。

以上兩類行業(yè)都與真空鍍膜機(jī)有密切關(guān)系，所以在生活中，真空鍍膜機(jī)是十分重要的。

真空鍍膜機(jī)附著力說明了什么

附著力反映了Al膜與基片之間的相互作用力，也是保證器件經(jīng)久耐用的重要因素。真空鍍膜設(shè)備濺射原子能量比蒸發(fā)原子能量高1-2個數(shù)量級。真空鍍膜機(jī)高能量的濺射原子沉積在基片上進(jìn)行的能量轉(zhuǎn)換比蒸發(fā)原子高得多，產(chǎn)生較高的熱能，部分高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象，在基片上形成一層濺射原子與基片原了相互溶合的偽擴(kuò)散層，而且，在真空鍍膜設(shè)備成膜過程中基片始終在等離子區(qū)中被清洗，清除了附著力不強(qiáng)的濺射原子，凈化且基片表面，增強(qiáng)了濺射原子與基片的附著力，因而濺射Al膜與基片的附著力較高。

高頻磁控濺射設(shè)備有什么特點

高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氣體和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕?。?dāng)金屬靶材撞向零件時由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。 磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù)，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是一切源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉(zhuǎn)為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達(dá)一千度以上從而溶化整個靶源。