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深圳真空磁控濺射鍍膜機(jī)廠家公司「在線咨詢」

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發(fā)布時(shí)間:2020-08-07 09:03  









中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)


中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù),它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù),它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)是克服了陽極消失現(xiàn)象;減弱或消除靶的異常弧光放電。因此,提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性,同時(shí),提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶,圓柱靶,孿生靶,對(duì)靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局。該類設(shè)備廣泛應(yīng)用于表殼、表帶、手機(jī)殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。



鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢(shì)



當(dāng)今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種,一種是化學(xué)氣象沉積,一種是化學(xué)鍍膜(CVD),一種是物理氣象沉積,也就是真空鍍膜(PVD)。

化學(xué)鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)所需其他氣體引入反應(yīng)室,在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程。在化學(xué)薄膜的過程中,容易產(chǎn)生溶液污染,如果鍍層表面雜質(zhì)多,鍍出來的效果不好。

化學(xué)鍍膜需要的反應(yīng)溫度很高,一般要控制在1000℃左右,但很多基體材料是無法受此高溫,及時(shí)硬質(zhì)合金,雖然能經(jīng)受高溫,但在化學(xué)鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會(huì)造成晶粒粗大,引起脆性相,性能變壞。如果在硬質(zhì)合金上鍍TiN,晶體擴(kuò)散出來的碳會(huì)與溶液發(fā)生反應(yīng)形成脫碳層,該層韌性差,抗彎強(qiáng)度低,造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機(jī)很好的解決了化學(xué)鍍膜產(chǎn)生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電技術(shù),利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場(chǎng)的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面,解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問題,不會(huì)產(chǎn)生有毒或污染物質(zhì),鍍出來的膜層硬度更高,耐磨性和腐蝕性好,性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下,適用于多種基體材料,可制備多姿多彩的膜層,鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高2~10倍。


真空鍍膜設(shè)備需要的環(huán)境要求

真空鍍膜設(shè)備需要的環(huán)境要求 真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作,因此該設(shè)備要滿足真空對(duì)環(huán)境的要求。真空對(duì)環(huán)境的要求,一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求,和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。 這兩個(gè)方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用;而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗,又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵,在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機(jī)械泵去抽氣,要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。眾所周,油封式機(jī)械泵不宜抽除對(duì)金屬有腐蝕性、對(duì)真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體,當(dāng)大量抽除可凝性氣體時(shí),對(duì)泵油的污染會(huì)更加嚴(yán)重,結(jié)果使泵的極限真空下降,破壞了泵的抽氣性能。


鍍膜設(shè)備工藝要求

鍍膜設(shè)備工藝要求: 真空度不得低于103PA,避免呈現(xiàn)褐色條紋或鋁層厚度不均表象;操控好體系張力,敞開冷卻體系,避免薄膜受熱呈現(xiàn)拉伸變形;準(zhǔn)確操控卷取速度(280~320m/min)、送鋁速度(0.4~0.7m/min?2mm鋁絲)及蒸騰舟加熱電流,以取得商品請(qǐng)求的鋁層厚度(100~300A°);可預(yù)先在薄膜上涂布必定干量的底膠,并充沛枯燥,再經(jīng)真空鍍鋁,可進(jìn)步鋁層與薄膜的結(jié)合力。然后在鋁膜上涂布必定量的維護(hù)樹脂,避免鋁層氧化蛻變。經(jīng)此技術(shù)構(gòu)成的鍍鋁薄膜,耐摩擦,且不易蛻變。


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