真空鍍膜機(jī)廠家為你介紹真空鍍膜技術(shù)在手機(jī)上的應(yīng)用

現(xiàn)在基本上每人都配置一部手機(jī)了，但使用手機(jī)不可避免的會(huì)發(fā)生輻射。手機(jī)輻射會(huì)引發(fā)、，還能影響少年兒童的生長發(fā)育，嚴(yán)重的甚至?xí)l(fā)。如何減輕手機(jī)輻射對(duì)人體健康的影響，已成為擺在我們面前的一個(gè)急需解決的問題。

真空鍍膜技術(shù)，目前可以較好地解決這個(gè)難題。它是在原子水平上進(jìn)行材料生成的技術(shù)，屬于納米材料的范疇。通過對(duì)手機(jī)殼內(nèi)壁真空鍍電磁防護(hù)膜層，可以大地防止因電磁波輻射而對(duì)手機(jī)使用者造成的危害。

真空鍍膜技術(shù)在手機(jī)上的應(yīng)用，不僅推動(dòng)了手機(jī)制造業(yè)的發(fā)展，也推動(dòng)了相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。有電磁輻射的產(chǎn)品都可以應(yīng)用這項(xiàng)技術(shù)進(jìn)行電磁屏蔽，好的保護(hù)了人們的健康。

真空鍍膜機(jī)濺射鍍膜與蒸發(fā)鍍膜的區(qū)別：

蒸發(fā)鍍膜是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。

蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

濺射鍍膜可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。真空鍍膜機(jī)設(shè)備

濺射鍍膜又分為很多種，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類—PVD鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色;鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色進(jìn)行測(cè)量，使顏色得以量化，以確定鍍出的顏色是否滿足要求。 PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍(水電鍍)的異同PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定;PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。

影響鍍真空鍍膜機(jī)為塑料件鍍膜時(shí)抽真空時(shí)間長的原因

影響鍍真空鍍膜機(jī)為塑料件鍍膜時(shí)抽真空時(shí)間長的原因磁控靶點(diǎn)火電壓的幾個(gè)因素 在工作氣體種類、成分、氣壓和陰極材料已確定及其它條件不變的條件下，鍍膜機(jī)陰-陽兩極間的氣體放電點(diǎn)火電壓的高低可由巴-刑定律來說明，氣體點(diǎn)燃電壓Uz不僅和氣壓P、極間距d有關(guān)，而且和P與d的乘積有關(guān)(即Uz是P×d乘積的函數(shù)，不是單獨(dú)是P或d的函數(shù))。巴-刑曲線的左側(cè)與下側(cè)是不能形成自持放電區(qū)域;右上側(cè)是可以形成穩(wěn)定自持放電區(qū)域;磁控濺射通常工作在巴-刑曲線的左支。利用這個(gè)規(guī)律，在放電部件(磁控靶、引出電極等)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，通過調(diào)整結(jié)構(gòu)間隙的手段來控制各電極對(duì)屏蔽罩、金屬腔體間的放電和打弧。