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鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬,雙向觀測,冷錐消除尾焰,具有更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更低的背景。
自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,有效穩(wěn)定,體積小巧,匹配速度快,確保Plasma 3000
ICP光譜儀精度較高運(yùn)行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
高速面陣 CCD 采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線信息,Plasma 3000 ICP光譜儀真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。
功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程。應(yīng)用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗(yàn)。
鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統(tǒng)
儀器采用徑向觀測與軸向觀測設(shè)計(jì),適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),使用CaF2棱鏡,提高光路傳輸效率。
優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì),采用非球面光學(xué)元件,改善成像質(zhì)量,提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù),縮短光室充氣時(shí)間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開機(jī)即可測量。 包圍式立體控溫系統(tǒng),保障光學(xué)系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。
光源
固態(tài)射頻發(fā)生器,穩(wěn)定,體積小巧,,匹配速度快
冷錐消除尾焰技術(shù),地降低自吸效應(yīng)和電離干擾,從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更 低的背景,保證準(zhǔn)確的測量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式,待機(jī)時(shí)降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運(yùn)行,節(jié)約使用成本。
簡潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì),快速定位,的位置重現(xiàn)。 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù),CAN工業(yè)現(xiàn)場總線,保障通訊可靠。
進(jìn)樣系統(tǒng)
簡潔的炬管安裝設(shè)計(jì),自動(dòng)定位炬管位置,的位置重現(xiàn)。
ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測試性能長期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動(dòng)泵,提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。
檢測器
大面積背照式CCD檢測器,全譜段響應(yīng),高紫外量化效率,抗飽和溢出,具有極寬的動(dòng)態(tài)范
圍和極快的信號(hào)處理速度。 一次曝光,完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取,從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。
ICP光譜儀具有同類產(chǎn)品中靶面尺寸,像素,單像素面積24μm X 24μm,三級(jí)半導(dǎo)體制冷,制冷溫 度 低,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。
軟件系統(tǒng)
人性化的界面設(shè)計(jì),流暢易懂,簡便易用,針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng),無須復(fù)雜的方法開發(fā), 即可快速開展分析操作。
豐富的譜線庫,智能提示潛在干擾元素,幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設(shè)置,直觀的測試結(jié)果顯示。
安全防護(hù)
電磁屏蔽,減少電磁輻射 連鎖門保護(hù),避免用戶誤操作可能帶來的風(fēng)險(xiǎn) 防紫外觀測窗
鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀
Plasma2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)”支持下研發(fā)的二維全譜高分辨ICP光譜儀,是國產(chǎn)全譜ICP光譜儀革命性產(chǎn)品,曾斬獲中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會(huì)“自主創(chuàng)新金獎(jiǎng)”等一系列榮譽(yù),在業(yè)界獲得廣泛的好評(píng)。美觀精致的高顏值工業(yè)設(shè)計(jì),優(yōu)異穩(wěn)定的測試性能源于納克近四十年ICP行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。Plasma2000擁有
1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),徑向觀測,具有穩(wěn)健的檢測能力。
2、 有效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的精度較高運(yùn)行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
3、 高速面陣CCD采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線信息,真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。
4、 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗(yàn)。
可廣泛應(yīng)用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草ICP-AES國家標(biāo)準(zhǔn)
鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家標(biāo)準(zhǔn)
儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日,國家標(biāo)準(zhǔn)委決定發(fā)布通知對(duì)2014年第二批擬立項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn)項(xiàng)目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標(biāo)準(zhǔn)。主管部門為中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì),歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會(huì),起草單位為鋼研納克檢測技術(shù)有限公司,計(jì)劃完成時(shí)間為2016年。
《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標(biāo)準(zhǔn)將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語與縮略語、分類、要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。
據(jù)介紹,制定該標(biāo)準(zhǔn)旨在提升我國ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性,使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準(zhǔn)入門檻,形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產(chǎn)儀器同國外儀器的性能差距,提高國產(chǎn)ICP光譜儀的市場占有率。對(duì)ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。
項(xiàng)目起草單位鋼研納克檢測技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年,2009年10月,鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年,鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀,采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級(jí)CCD檢測器實(shí)現(xiàn)全譜采集,該儀器是鋼研納克“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)”成果。