PVD鍍膜加工

 PVD鍍膜加工在影響產(chǎn)品質(zhì)量的五大因素〔操作者、設備、材料、工藝方法及生產(chǎn)環(huán)境)中，人是位的。PVD鍍膜故障的發(fā)生都與操作工專業(yè)技能和工作責任心有關。PVD鍍膜生產(chǎn)管理人員對操作工指導和監(jiān)督不力，這些在PVD鍍膜企業(yè)較普遍存在的狀況,PVD鍍膜使得故障在所難免。要減少PVD鍍膜生產(chǎn)故障，提高PVD鍍膜從業(yè)人員的專業(yè)技能和工作責任心是十分重要的。

真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術經(jīng)濟效益的作用。因此真空鍍膜技術被譽為發(fā)展前途的重要技術之一，并已在高技術產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術已在國民經(jīng)濟各個領域得到應用，如航空、航天、電子、信息、機械、石油、化工、環(huán)保、軍事等領域。

 2.2.2偏壓濺射biassputtering：在濺射過程中，將偏壓施加于基片以及膜層的濺射。

   2.2.3直流二級濺射directcurrenodesputtering：通過二個電極間的直流電壓，使氣體自持放電并把靶作為陰極的濺射。

   2.2.4非對稱流濺射asymmtricalternatecurrentsputtering：通過二個電極間的非對稱流電壓，使氣體自持放電并把靶作為吸收較大正離子流的電極。

   2.2.5高頻二極濺射highfrequencydiodesputtering：通過二個電極間的高頻電壓獲得高頻放電而使靶極獲得負電位的濺射。

   2.2.6熱陰極直流濺射（三極型濺射）hotcathodedirectcurrentsputtering：借助于熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電，氣體放電所產(chǎn)生的離子，由在陽極和陰極（靶）之間所施加的電壓加速而轟擊靶的濺射。