平面研磨機(jī)需要的設(shè)備有哪些

平面研磨機(jī)需要的設(shè)備有哪些 研磨機(jī)主機(jī)采用調(diào)速電機(jī)驅(qū)動，配置大功率減速系統(tǒng)，軟啟動、軟停止，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)。通過上、下研磨盤、太陽輪、游星輪在加工時形成四個方向、速度相互協(xié)調(diào)的研磨運動，達(dá)到上下表面同時研磨的運作。下研磨盤可升降，方便工件裝卸。氣動太陽輪變向裝置，控制工件兩面研磨精度和速度。隨機(jī)配有修正輪，用于修正上下研磨盤的平行誤差。 1、磨盤：如遇到較軟的工件材料時，比如說研磨光學(xué)玻璃這種材質(zhì)的工件，我們可以采用半軟質(zhì)的磨盤（比如錫盤）或者軟質(zhì)的磨盤（比如瀝青盤）等，使用這類研磨盤的缺點是磨盤比較容易保持平面度，所以會對加工工件的平面度產(chǎn)生一定的影響，而優(yōu)點是研磨出的工件表面變質(zhì)層較小，且表面粗糙度也小。要想獲取較高的研磨表面質(zhì)量，需選用正確且適合的磨盤。 2、磨粒：它主要是按照硬度分為兩類（硬磨粒和軟磨粒），選用研磨時用到的磨粒具備功能體現(xiàn)為形狀、尺寸均勻一致；能適當(dāng)?shù)钠扑?，使切刃鋒利；磨粒的熔點要比工件熔點高；磨粒在加工也中易分散等。 3、加工液：研磨拋光加工液通常由基液（水性或油性）、磨粒、添加劑三部分組成，作用是供給磨粒、排屑、冷卻和潤滑。對加工液的要求如下： 1）能夠有效散熱，以免研具和工件表面熱變形； 2）不可污染工件的； 3）粘性低的，可提高磨粒流動性； 4）化學(xué)物理性能穩(wěn)定的，不會因放置或者溫升而分解變質(zhì)； 5）能夠較好地分散磨粒的。 在平面研磨機(jī)研磨拋光時，會伴有發(fā)熱現(xiàn)象，除了工件和研具因溫度上升而發(fā)生形變難以進(jìn)行高精度研磨外，在局部的磨粒作用點上也會產(chǎn)生相當(dāng)高的溫度，使加工變質(zhì)層深度增加。而適當(dāng)?shù)毓┙o加工液，可以有效保證研具有良好的耐磨性工件的形狀精度及較小的加工變質(zhì)層。添加劑的作用是放置或延緩磨料沉淀，并對工件發(fā)揮化學(xué)作用以提高研磨拋光加工效率和質(zhì)量。

平面拋光機(jī)的保養(yǎng)心得

平面拋光機(jī)的保養(yǎng)心得 、在平面拋光機(jī)使用一段時間之后，需要對內(nèi)部的機(jī)油進(jìn)行更換，因為只有新的機(jī)油才能保證對設(shè)備不會產(chǎn)生腐蝕的作用，在它所呈現(xiàn)的中性物質(zhì)的保護(hù)下，就可以延長發(fā)動機(jī)的使用壽命。同時在不使用的時候要將設(shè)備內(nèi)部的水放掉，從而確保了不被其腐蝕。 第二、一旦在設(shè)備不需要使用的時候，切莫長時間對設(shè)備進(jìn)行停滯，的做法是在每個月的時候?qū)l(fā)動機(jī)進(jìn)行一次發(fā)動，這樣這些機(jī)械就可以完成一次短距離的運動。這樣做的目的就是確保設(shè)備上的每一個零件可以在運轉(zhuǎn)的過程中接觸到新的油膜，這樣就不會出現(xiàn)生銹的現(xiàn)象了。但值得注意的是在對發(fā)動機(jī)進(jìn)行發(fā)動的時候，不能無水作業(yè)，即使麻煩也要對其內(nèi)部進(jìn)行注水處理，在完成運轉(zhuǎn)之后再將那些水放干凈。 第三、為了保證平面拋光機(jī)有長久的使用壽命，在其內(nèi)部的燃油箱內(nèi)應(yīng)該有滿滿的柴油，這樣的話油箱就不會生銹，如果再加入防腐劑效果會更好，這樣的設(shè)備會一直保持著新鮮度。 第四、在平面拋光機(jī)上還會有蓄電池，在進(jìn)行使用期間蓄電池要做到每個月就完成一次充電。這樣蓄電池才能長久的使用下去。但是很多人在拆下蓄電池的時候有不規(guī)范的操作，這也是影響其壽命的主要原因。正確的方法是在拆下蓄電池的時候一定要放置在干燥的位置，不管何時都要保證其表面的干燥與清潔。為不能做的事情是蓄電池上面不能放置容易導(dǎo)電的物質(zhì)，那樣會直接影響到它的使用壽命。 后需要提醒操作者在使用平面拋光機(jī)的時候，在沒有緊急的情況發(fā)生的時候，不能隨意的顛倒操作的順序，也不能不按照程序驟然停止操作，更不能無故的將電源切斷，所有這些都是不合乎規(guī)范的操作，不但會對設(shè)備造成損壞，還會危及到他人的安全。

切割、研磨、拋光容易忽視的操作環(huán)節(jié)要注意了

切割、研磨、拋光容易忽視的操作環(huán)節(jié)要注意了 研磨拋光，切割前應(yīng)對其定向，確定切割面，切割時首先將鋸片固定好，被切晶體材料固定好，切割速度選擇好，切割時不能不用切割液，它不僅能沖洗鋸片，而且還能減少由于切割發(fā)熱對晶體表面產(chǎn)生的損害，切割液還能沖刷切割區(qū)的晶體碎渣。 切割下來的晶片，要進(jìn)入下一道工序研磨。首先要用測厚儀分類測量晶片的厚度進(jìn)行分組，將厚度相近的晶片對稱粘在載料塊上。粘接前，要對晶片的周邊進(jìn)行倒角處理。粘片時載料塊溫度不易太高，只要固定臘溶化即可，晶片擺放在載料塊的外圈，粘片要對稱，而且要把晶片下面的空氣排凈（用鐵塊壓實）。防止產(chǎn)生載料塊不轉(zhuǎn)和氣泡引發(fā)的碎片的現(xiàn)象。在研磨過程中適時測量減薄的厚度，直到工藝要求的公差尺寸為止。 使用研磨拋光機(jī)前要將設(shè)備清洗干凈，同時為保證磨盤的平整度，每次使用前都要進(jìn)行研盤，研盤時將修整環(huán)和磨盤自磨，選用研磨液要與研磨晶片的研磨液相同的磨料進(jìn)行，每次修盤時間10分鐘左右即可。只有這樣才能保證在研磨時晶片表面不受損傷，達(dá)到理想的研磨效果。 拋光前要檢查拋光布是否干凈，拋光布是否粘的平整，一定要干凈平整。進(jìn)行拋光時，拋光液的流量不能小，要使拋光液在拋光布上充分飽和，一般拋光時間在一小時以上，期間不停機(jī)，因為停機(jī)，化學(xué)反應(yīng)仍在進(jìn)行，而機(jī)械摩擦停止，造成腐蝕速率大于機(jī)械摩擦速率，而使晶片表面出現(xiàn)小坑點。 設(shè)備的清洗非常重要，清洗是否干凈將直接影響磨、拋晶片的質(zhì)量。每次研磨或拋光后，都要認(rèn)真將設(shè)備里外清洗干凈。

如何改善平面研磨機(jī)的熱變形現(xiàn)象

如何改善平面研磨機(jī)的熱變形現(xiàn)象 如何減少熱變形對平面研磨機(jī)在加工工件精度方面的影響，需要在平面研磨機(jī)設(shè)備上采用各種熱自動補(bǔ)償?shù)姆椒▉砀纳乒に囅到y(tǒng)，下面就來具體說說其中的方法。 在解決工件的兩端面磨主軸熱伸長的問題的時候，采用的解決辦法是除了改善主軸軸承的潤滑的方面之外，還會采用熱補(bǔ)償?shù)姆椒?，達(dá)到平衡的要求，在當(dāng)主軸由于軸承的發(fā)熱而出現(xiàn)變形伸長的時候，自動補(bǔ)償主軸的向前的熱變形，達(dá)到消除平面研磨機(jī)主軸的熱變形的加工精度的影響。 在設(shè)備的結(jié)構(gòu)上，還有其他的達(dá)到熱均衡的方法，主要是采用熱空氣空氣來加熱溫升，以達(dá)到均衡溫升，這種能夠有效降低立柱的彎曲變形。 這種方法被加工工件的不平度是可以大大的降低，由于設(shè)備的原因，設(shè)備上部分的熱量會比較大，目前會采用熱管的裝置來降低設(shè)備的熱變形，效果比較明顯。 縮短啟動至達(dá)到一個熱平衡的這個時間，是比較有利于提高生產(chǎn)率的。主要有兩種方法，在加工工件之前需要是平面研磨機(jī)設(shè)備能夠迅速的達(dá)到一個熱平衡的狀態(tài)，然后是換成工作轉(zhuǎn)速進(jìn)行加工，另外一種方法。是采用設(shè)備適當(dāng)部位人工設(shè)備熱源，促進(jìn)其達(dá)到熱平衡，在設(shè)備不進(jìn)行工作的時候，保持設(shè)備能夠加工到工作的狀態(tài)的溫度，從而是設(shè)備的熱變形能夠減小到一半。