冶煉硅鐵用焦炭作還原劑，使較易增碳的自焙電極，采用焦炭磚砌筑出鐵口和流鐵槽，有時(shí)用石墨粉涂錠模，使用炭質(zhì)樣勺取液體樣等等。由于電極插入爐料淺，故不適宜采用較高電壓冶煉，應(yīng)該采用較低的二次電壓冶煉?？傊?，冶煉硅鐵從爐內(nèi)反應(yīng)直到出鐵，澆注過程中，與碳接觸的機(jī)會(huì)顯然很多。但是，硅鐵的含碳量卻低于0.1%，一般為0.05%～0.07%。

我們以知硅鐵是硅和鐵組成的合金。如果焦碳的電阻小，通過爐料的電流大，使電極上升，電極插入深度就淺。體積相同的兩塊硅鐵，其中含硅量越多，即含鐵量越少的就越輕；反之，含硅量越少，即含鐵量越多就越重。由此可知，硅鐵中含硅量越多，其比重越小；反之，含硅量越少，其比重越大。這樣，根據(jù)比重多少，就可知硅鐵中的含硅量。

硅鐵冶煉的基本反應(yīng)，是利用焦碳中的碳，將硅石中二氧化硅的硅還原出來的反應(yīng)。要使這一反應(yīng)順利進(jìn)行，必須有良好的爐況。正確的加料方法，是獲得良好爐況、達(dá)到高產(chǎn)量低消耗的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一。每批料必須混合均勻后加入爐內(nèi)，不準(zhǔn)偏加料。

均勻地混合爐料是保證爐內(nèi)反應(yīng)正常進(jìn)行的重要操作條件。爐料中鋼屑數(shù)量較多，爐料導(dǎo)電性強(qiáng)，電極插入深度比冶煉75硅鐵的淺。如果爐料未經(jīng)均勻混合或任意選擇性的加入爐內(nèi)，這就是同常所說的“偏加料”，其結(jié)果是在爐內(nèi)局部區(qū)域造成硅石過?；蚪固歼^剩，這兩種情況都不利于爐內(nèi)反映順利進(jìn)行，而使?fàn)t況惡化?？梢姡瑺t料混合均勻是十分重要的。

影響電極插入深度的因素有哪些？

焦碳加入量：焦碳的導(dǎo)電性比硅強(qiáng)。料面火焰呈藍(lán)色，并且為弱無力：爐料中過剩的焦炭，發(fā)生燃燒反應(yīng)，這種火焰是藍(lán)色的，并且為弱無力。如果焦碳加入量過多，會(huì)影響電極深插。因此，在滿足硅石中的二氧化碳充分還原的條件下，焦碳加入不要過多，以利于電極插入。焦碳粒度：焦碳的粒度小，表面積增大，增加接觸面，爐料的電阻大，則電極插入深；反之，焦碳的粒度大，表面積減少，爐料的電阻小，則電極的插入深度就變淺。

焦碳性質(zhì)：這里主要是指焦碳本身的電阻。磷﹙P﹚和硫﹙S﹚是對(duì)鋼質(zhì)量影響較大的雜質(zhì)，硅鐵含磷較多時(shí)易使硅鐵粉化。如果焦碳的電阻小，通過爐料的電流大，使電極上升，電極插入深度就淺。反之，焦碳的電阻大，例如使用煤氣焦等，因其電阻大，電極則可深插。二次電壓：當(dāng)冶煉采用較高的二次電壓時(shí)，電弧較長，電極在爐料內(nèi)插入較淺。反之，采用較低的二次電壓，電極插入爐料就比較深。

硅石加入爐內(nèi)預(yù)熱時(shí)均有不同程度的爆裂，這是因二氧化硅晶格變化時(shí)體積膨脹造成的。不同產(chǎn)地的硅石，其爆裂程度不同。

選礦源時(shí)要把硅石先做爐內(nèi)試驗(yàn)，再確定是否能用。小爐子用的硅石，可因地制宜，適當(dāng)酌情降低質(zhì)量要求。對(duì)硅石粒度也有要求，粒度過大，反應(yīng)速度減慢，粒度過小或粉末多，會(huì)影響料面的透氣性。粉末多的硅石帶入泥土也多，使渣量增加。