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蘇州鋁排加工推薦

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發(fā)布時(shí)間:2020-10-30 05:51  






電鍍設(shè)備的選擇對于電鍍質(zhì)量的重要性:

滾鍍自動(dòng)線:

滾鍍自動(dòng)線也有環(huán)形機(jī)械或液壓式自動(dòng)線與直線龍門式自動(dòng)線兩大類。

環(huán)形機(jī)械式適宜于傾斜自動(dòng)裝卸的鐘型滾筒高速電鍍設(shè)備(板材、線材)和選擇性電鍍設(shè)備。

隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展和電子電鍍的進(jìn)步,對高速電鍍生產(chǎn)自動(dòng)線,選擇性電鍍生產(chǎn)線的需求增多。大多數(shù)是技術(shù)與制造能力更大的公司承接。

電鍍生產(chǎn)線周邊輔助設(shè)備:

電鍍電源是電鍍生產(chǎn)過程中重要的輔助設(shè)備。國內(nèi)大量應(yīng)用的還是硅整流器和可控硅整流器,分為調(diào)壓器調(diào)壓、磁飽和電抗器調(diào)壓及可控硅凋壓。

電鍍用硅整流器和可控硅整流器都是低壓大電流,一般為12V(鍍鉻選用18V),電流從100A至20000A都有可控硅調(diào)壓的硅整流器,只有在負(fù)荷較高時(shí)渡形良好穩(wěn)流穩(wěn)壓、穩(wěn)定電流密度的電鍍電源也正在推廣應(yīng)用。



電鍍基礎(chǔ)知識問答匯總,搞電鍍一定要知道!

光亮鍍鎳溶液要注意那些有害雜質(zhì)的干擾影響?

答:光亮鍍鎳要注意:

(1)工業(yè)原料不純。如流酸鎳含有銅、鋅及肖酸根,陽極鎳板含有鐵等雜質(zhì);

(2)生產(chǎn)過程的污染。如清洗不徹底,從產(chǎn)品或掛具帶進(jìn)的銅、鉻。有機(jī)添加劑的分解產(chǎn)物。這些都是光亮鍍鎳的有害雜質(zhì),要注意排除。

鍍鎳套鉻后出現(xiàn)脫皮、撲落現(xiàn)象,主要是由于鍍前處理不良所造成的嗎?

答:鍍鎳套鉻后出現(xiàn)鍍層剝離現(xiàn)象,鍍前處理不良是一個(gè)因素,但不一定全是由于鍍前處理不良所造成,它與鍍液的狀況以及產(chǎn)生雙層鎳的現(xiàn)象有關(guān)。

為什么不能使用金屬鉻作為鍍鉻陽極?

答:鍍鉻不采用可溶性金屬鉻作為陽極,主要是它在鍍鉻過程中極易溶解。陽極金屬鉻溶解的電流效率大大地高于陰極金屬鉻沉積的電流效率。這樣,隨著電鍍過程的進(jìn)行,勢必造成鍍液中鉻含量愈來愈高,致使無法實(shí)現(xiàn)正常的電鍍。而且以金屬鉻作為陽極,它主要以三價(jià)鉻離子形式溶解進(jìn)入溶液中,使鍍液中的三價(jià)鉻離子大量積累。同時(shí)由于金屬鉻很脆,難以加工成各種形狀,所以不能用全金屬鉻作為陽極,一般都采用鉛或鉛合金來作為鍍鉻過程中的陽極。



電鍍件的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)要點(diǎn):

1)基材采用電鍍級ABS材料,ABS電鍍后覆膜的附著力較好,同時(shí)價(jià)格也比較低廉。

2)塑件表面質(zhì)量一定要非常好,電鍍無法掩蓋注射的一些缺陷,而且通常會(huì)使得這些缺陷更明顯。

3)電鍍件鍍層厚度對配合尺寸的影響

電鍍件的厚度按照理想的條件會(huì)控制在0.02mm左右,但是在實(shí)際的生產(chǎn)中,可能較多會(huì)有0.08mm的厚度,所以在有滑動(dòng)配合的位置上,單邊的間隙要控制在0.3mm以上,才能達(dá)到滿意的效果,這是我們對電鍍件配合時(shí)需要作的關(guān)注。

4)表面凸起控制在0.1~0.15mm/cm,盡量沒有尖銳的邊緣。

5)如果有盲孔的設(shè)計(jì),盲孔的深度不超過孔徑的一半,負(fù)責(zé)不要對孔的底部的色澤作要求。

6)要采用適合的壁厚防止變形,在1.5mm以上4mm以下,如果需要作的很薄的話,要在相應(yīng)的位置作加強(qiáng)的結(jié)構(gòu)來保證電鍍的變形在可控的范圍內(nèi)。




電鍍工藝的質(zhì)量控制:

鍍后處理應(yīng)根據(jù)鍍件的質(zhì)量要求,合理安排清洗、驅(qū)氫、出光、鈍化、干燥和涂膜等鍍后處理分工序。需要驅(qū)氫的零件,鍍后必須進(jìn)行驅(qū)氫處理。凡抗拉強(qiáng)度大于或等于1000Mpa的黑色金屬零件,鍍后都應(yīng)進(jìn)行驅(qū)氫處理。需退鍍并重新電鍍的零件,退鍍前應(yīng)經(jīng)驅(qū)氫處理;若退鍍過程中有新的滲氫現(xiàn)象,退鍍后仍需增加驅(qū)氫處理。重新鍍覆的零件,鍍后必須驅(qū)氫。凡要求鍍后驅(qū)氫的零件,鍍后應(yīng)盡快地進(jìn)行驅(qū)氫處理。電鍍與驅(qū)氫處理之間的間隔時(shí)間,對抗拉強(qiáng)度大于1200Mpa的黑色金屬件不得超過4h,對抗拉強(qiáng)度等于或小于1200Mpa的黑色金屬件不得超過10h。2.8成品檢驗(yàn)

每槽經(jīng)鍍后處理的鍍件,應(yīng)進(jìn)行外觀、鍍層厚度、結(jié)合性和接觸偶配合情況的檢驗(yàn),做好記錄。并在不影響鍍件質(zhì)量的適當(dāng)位置做出標(biāo)記或標(biāo)簽。

對不便在鍍件上進(jìn)行的檢查和試驗(yàn),允許在相同批次和工藝條件下鍍出的樣板上進(jìn)行。

環(huán)境條件

應(yīng)注意環(huán)境條件對電鍍質(zhì)量的影響,不斷改善電鍍各分工序的操作環(huán)境,加強(qiáng)通風(fēng),并設(shè)置排除有害氣體與灰塵的裝備,加強(qiáng)技術(shù)改造,不斷減輕操作的勞動(dòng)強(qiáng)度,盡量降低客觀因素對質(zhì)量的影響。



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