電子廠如何處理焊錫廢氣?

　　低溫等離子法

　　低溫等離子法的原理是在使用高壓靜電法的同時(shí)，在靜電場(chǎng)的前端建立等離子體場(chǎng)，利用其能量激發(fā)的大量自由基降解煙灰顆粒，降低其粘度。在等離子體產(chǎn)生過(guò)程中，高頻放電產(chǎn)生的瞬時(shí)能量可以打開有害氣體的化學(xué)鍵，將它們分解成元素原子或無(wú)害分子。該技術(shù)是目前市場(chǎng)上油煙和煙氣的處理技術(shù)，去除率可達(dá)90%以上，處理后的氣體達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)，維護(hù)方便。

常用的有機(jī)廢氣處理工藝

使用活性炭吸附法處理VOCs達(dá)標(biāo)排放實(shí)際運(yùn)維費(fèi)用是十分高昂的，同時(shí)自然吸、脫附管理難、適用性受多種因素影響，不適合含粉塵、水汽、乳狀物等廢氣處理，難穩(wěn)定環(huán)保達(dá)標(biāo)。且大量飽和后的活性炭處理更耗費(fèi)巨大，該方法僅是將污染物吸附轉(zhuǎn)移，如對(duì)飽和后活性炭轉(zhuǎn)移過(guò)程無(wú)嚴(yán)格把關(guān)跟蹤，則極易造成二次污染。但因前期投資少，企業(yè)自然選用較多，現(xiàn)雖監(jiān)管難（炭箱內(nèi)沒有活性炭，活性炭設(shè)施過(guò)于簡(jiǎn)陋、幾乎不換炭，活性炭選用與實(shí)際設(shè)計(jì)不符，使用量過(guò)少等），但環(huán)保部門終會(huì)有所行動(dòng)的，存在著巨大環(huán)保風(fēng)險(xiǎn)‘

廢氣處理工藝——光催化氧化工藝

光催化氧化工藝簡(jiǎn)介

光化學(xué)和光催化氧化法是目前研究較多的一種高1級(jí)氧化技術(shù)。光催化反應(yīng)即在光的作用下進(jìn)行的化學(xué)反應(yīng)。分子吸收特定波長(zhǎng)的電磁輻射后，是分子達(dá)到激發(fā)態(tài)，然后發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生新的物質(zhì)，或成為熱反應(yīng)的引發(fā)劑。

光催化氧化工藝原理及流程

VOCs廢氣處理9大工藝、適用范圍、成本控制

Ti02作為一種半導(dǎo)體材料其自身的光電特性決定了它可以用作光催化劑。半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu)通常是一個(gè)電子填充低能量?jī)r(jià)帶（VB）和一個(gè)空的高能量的導(dǎo)帶（CB），導(dǎo)帶和價(jià)帶之間的區(qū)域被稱為禁帶。

當(dāng)照射半導(dǎo)體的光能量等于或大于禁帶寬度時(shí)，其價(jià)帶電子被激發(fā)，跨過(guò)禁帶進(jìn)入導(dǎo)帶，并在價(jià)帶中產(chǎn)生相應(yīng)空穴。電子從價(jià)帶激發(fā)到導(dǎo)帶，激發(fā)后分離的電子和空穴都有一部分進(jìn)一步進(jìn)行反應(yīng)。