微弧氧化技術特點

（1）大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在1000至2000HV，高可達3000HV，可與硬質(zhì)合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；

（2）良好的耐磨損性能；

（3）反應在常溫下進行，操作方便，易于掌握。

（4）基體原位生長陶瓷膜，結(jié)合牢固，陶瓷膜致密均勻。微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

1、提高材料表面硬度微弧氧化膜層為表面多孔（孔徑為幾微米）、內(nèi)部致密的陶瓷層。 膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右） 膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。微弧氧化技術、微弧氧化生產(chǎn)線

2、微弧氧化技術絕緣性好耐熱性高，可承受高溫使用，范圍根據(jù)基材熔點溫度 有良好的絕緣性能，絕緣電阻膜阻>100MΩ 絕緣耐壓>5000V/秒。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)工藝

微弧氧化技術的原理及特點     

       微弧氧化陶瓷技術是一種在鋁、鎂、鈦等輕金屬合金表面原位生長陶瓷層的高新技術。微弧氧化原理是在工件表面生成陽極化膜的同時，通過微電弧瞬時7000K高溫把極化膜轉(zhuǎn)為陶瓷相。該陶瓷層硬度高、高耐磨、韌性好、與基體結(jié)合力強、耐腐蝕、耐高溫氧化、絕緣性好，特別適用于高速運動且需要高耐磨、耐腐蝕、抗高溫沖擊的輕金屬合金零部件。處于熱等離子態(tài)的物質(zhì)具有強的導電性，且能量集中，溫度較高，是一個高熱、高溫的能源。微弧氧化技術、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化工藝

微弧氧化的優(yōu)勢

       微弧氧化是一種直接在有色金屬表面原位生長陶瓷層的新技術，微弧氧化技術是近十幾年在陽極氧化基礎上發(fā)展起來的，但兩者在機理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。所謂等離子體就是由大量的自由電子和離子組成，且在整體上表現(xiàn)為電中性的物質(zhì)，它被稱為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)以外的第四態(tài)。處于熱等離子態(tài)的物質(zhì)具有強的導電性，且能量集中，溫度較高，是一個高熱、高溫的能源。與傳統(tǒng)的陽極氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜與基體結(jié)合牢固，結(jié)構致密，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應用前景。微弧氧化產(chǎn)生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉(zhuǎn)變和結(jié)構轉(zhuǎn)變。