溫度對(duì)微弧氧化的影響

       微弧氧化與陽(yáng)極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會(huì)形成水氣。微弧氧化電解液組成及工藝條件微弧氧化電解液組成：K2SiO35～10g/L，Na2O24～6g/L，NaF0。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過(guò)程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過(guò)程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源

        微弧氧化現(xiàn)象及特點(diǎn)

       在陽(yáng)極氧化過(guò)程中，當(dāng)鋁合金上施加的電壓超過(guò)一定范圍時(shí)，鋁合金表面的氧化膜就會(huì)被擊穿。隨著電壓的繼續(xù)不斷升高，氧化膜的表面會(huì)出現(xiàn)輝光放電，微弧和火花放電燈現(xiàn)象。溶液電導(dǎo)率：溶液電導(dǎo)率對(duì)微弧氧化工業(yè)鋁型材的生長(zhǎng)速度和致密度都有影響。其中只有微弧區(qū)的溫度適中，既可使氧化膜的結(jié)構(gòu)發(fā)生變化，又不造成鋁合金材料表面的受損，微弧氧化就是利用這個(gè)溫度區(qū)對(duì)材料表面進(jìn)行改性處理的。微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)、微弧氧化工藝、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化

      微弧氧化是輕金屬在其特定的電解液及電場(chǎng)條件下，原位生長(zhǎng)陶瓷膜的新技術(shù)。了解電ji穿原理，對(duì)于研究微弧氧化機(jī)理，開(kāi)發(fā)新的表面處理技術(shù)均有著重要的理論意義。微弧氧化原理是將Al、Mg、Ti等輕金屬或其合金置于電解質(zhì)水溶液中作為陽(yáng)極，利用電化學(xué)方法在該材料的表面產(chǎn)生火花放電斑點(diǎn)，在熱化學(xué)、等離子體化學(xué)和電化學(xué)的共同作用下，獲得金屬氧化物陶瓷層的一種表面改性技術(shù)。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化工藝