微弧氧化技術(shù)

       微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域，克服了硬質(zhì)陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。3、無毒環(huán)保，該液體不含有毒物質(zhì)和zhong金屬，再生重復(fù)使用效率高。該技術(shù)具有操作簡單和膜層功能可控的特點(diǎn)，而且工藝簡便，環(huán)境污染小，是一項(xiàng)全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術(shù)，在航空航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

溫度對微弧氧化的影響

       微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。微弧氧化又稱微等粒子氧化或陽極火花沉積，是一種在Al、Mg、Ti等有色金屬表面原位生長陶瓷膜的表面處理新技術(shù)，技術(shù)上具有先進(jìn)性。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源

微弧氧化

       微弧氧化，是在電解質(zhì)溶液中（一般是弱堿性溶液）施加高電壓（直流、交流或脈沖）在材料表面原位生長陶瓷氧化膜的過程，該過程是物理放電與電化學(xué)氧化、等離子體氧化協(xié)同作用的結(jié)果。采用微弧氧化技術(shù)所制備的陶瓷膜同時具備了陽極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優(yōu)點(diǎn)，可以部分替代陽極氧化膜和陶瓷噴涂的產(chǎn)品。微弧氧化技術(shù)是在普通陽極氧化技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，進(jìn)一步提高電壓，使電壓超出法拉第區(qū)，達(dá)到氧化膜的擊穿電壓，就會在陽極出現(xiàn)火花放電現(xiàn)象，在材料表面形成陶瓷氧化膜，使等離子體氧化膜既有陶瓷膜的，又保持了陽極氧化膜與基體的結(jié)合力。

微弧氧化技術(shù)

       微弧氧化又稱微等離子體氧化、陽極火花沉積 或火花放電陽極氧化,，還有人稱之為等離子體增強(qiáng)電化學(xué)表面陶瓷化  。溫度對微弧氧化的影響微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。該技術(shù)的基本原理及特點(diǎn)是：在普通陽極氧化的基礎(chǔ)上，利用弧光放電增強(qiáng)并ji活在陽極上發(fā)生的反應(yīng)，從而在以鋁、鈦、鎂金屬及其合金為材料的工件表面形成的強(qiáng)化陶瓷膜的方法。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化圖片、微弧氧化技術(shù)設(shè)備