微弧氧化

       微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等，是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時高溫高壓作用，原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中，化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜，至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。溫度對微弧氧化的影響微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。

微弧氧化設(shè)備

      微弧氧化設(shè)備有熱交換和制冷設(shè)備。由于微弧氧化過程中工件表面具有較高的氧化電壓并通過較大的電解電流，使產(chǎn)生的熱量大部分集中于膜層界面處，而影響所形成膜層的質(zhì)量，因此微弧氧化必須使用配套的熱交換制冷設(shè)備，使電解液及時冷卻，保證微弧氧化在設(shè)置的溫度范圍內(nèi)進行?？蓪㈦娊庖翰捎醚h(huán)對流冷卻的方式進行，既能控制溶液溫度，又達到了攪拌電解液的目的。微弧氧化又稱微等離子體氧化、陽極火花沉積或火花放電陽極氧化,，還有人稱之為等離子體增強電化學(xué)表面陶瓷化。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)

       微弧氧化電源設(shè)備是一種高壓大電流輸出的特殊電源設(shè)備，輸出電壓范圍一般為0～600V；日照微弧氧化技術(shù)有限公司專業(yè)從事微弧氧化技術(shù)的研發(fā)以及設(shè)備的生產(chǎn)銷售，歡迎咨詢訂購。輸出電流的容量視加工工件的表面積而定，一般要求6～10A/dm2。電源要設(shè)置恒電壓和恒電流控制裝置，輸出波形視工藝條件可為直流、方波、鋸齒波等波形。  微弧氧化膜層性能檢測儀器膜層的性能檢測包含三部分院厚度表征、硬度表征、形貌表征、相成分表征和表面粗糖度表征等。