什么是微弧氧化？微弧氧化膜層生長(zhǎng)過(guò)程是怎樣的？

微弧氧化技術(shù)(MAO)是在陽(yáng)極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一項(xiàng)新技術(shù)，是在含有特定離子的電解液中，通過(guò)弧光放電處理和電化學(xué)氧化的共同作用，在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料表面原位產(chǎn)生一層與基體結(jié)合良好的陶瓷層的表面處理技術(shù)，膜層具有耐蝕性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、絕熱性能好等特點(diǎn)。

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為探究工藝參數(shù)對(duì)鋁合金微弧氧化膜層中蛇紋石含量的影響，采用微弧氧化技術(shù)，分別在雙向恒壓、單向恒壓和單向恒流模式下，在添加蛇紋石微納米顆粒的電解液中進(jìn)行試驗(yàn)，在ZL109鋁合金表面原位生長(zhǎng)陶瓷層。采用SEM、EDS及XRD對(duì)膜層進(jìn)行分析。

結(jié)果表明：在單向恒壓和單向恒流模式下制得的微弧氧化膜層的蛇紋石含量相比雙向恒壓模式分別提高了92%和113%；

在硅酸鹽體系中分別添加三氧化鉬和鉬酸鈉，對(duì)AZ91D鎂合金進(jìn)行微弧氧化處理，對(duì)比研究鉬質(zhì)量濃度相同的三氧化鉬和鉬酸鈉對(duì)微弧氧化膜耐蝕性的影響。通過(guò)TT260涂層測(cè)厚儀、SEM和XRD分別檢測(cè)膜層厚度、表面形貌和物相組成。采用點(diǎn)滴和電化學(xué)實(shí)驗(yàn)研究膜層的耐蝕性。

結(jié)果表明：電解液中加入鉬質(zhì)量濃度相同的MoO3和Na2MoO4后,膜層點(diǎn)滴耐蝕性均有所降低,但電化學(xué)耐蝕性均增加，且二者添加量均為少時(shí)膜層耐蝕性更佳。

微弧氧化材料表面陶瓷化機(jī)理

微弧氧化是一種在高電壓、大電流下對(duì)金屬材料進(jìn)行表面處理的技術(shù)。由于采用了較高的電壓(大于250 V)，在微弧氧化處理過(guò)程中，可在樣品材料表面觀察到光斑(弧光)現(xiàn)象。光斑十分細(xì)小，密度很大，且無(wú)固定位置。這種細(xì)小的光斑意味著在樣品材料表面形成了大量的等離子體微區(qū)，在微區(qū)內(nèi)瞬間溫度可達(dá)2500℃以上，壓力可達(dá)數(shù)百個(gè)大氣壓，為上面提到的一系列化學(xué)、物理反應(yīng)的進(jìn)行創(chuàng)造了條件。利用這一環(huán)境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化層，可用來(lái)改善材料自身的防腐、耐磨和電絕緣等特性。