影響鍍膜機磁控靶點火電壓的幾個因素

氣體壓力對點火電壓的影響：在磁控靶濺射鍍膜工藝過程中，由于磁控靶的陰-陽極間距一經(jīng)確定就是一個大體不變的值，工作氣體的壓力在一定的(例如0.1Pa~10Pa)范圍內(nèi)變化可能會對點火電壓產(chǎn)生較大的影響，總的變化趨勢為：隨著工作氣體的壓力的逐步增大，磁控靶點火電壓相應(yīng)降低。不同的磁控靶、不同材質(zhì)的靶材，靶啟輝點火的工作氣體壓強不盡相同。

電源對點火電壓的影響：在同等條件下，選用射頻靶電源比選中頻或直流靶電源，磁控靶陰極點火電壓和工作(濺射)電壓都會要降低;選用射頻、中頻正弦半波或脈沖靶電源，比選低頻率同類波形靶電源，陰極點火電壓和工作(濺射)電壓均會要降低;

汽車發(fā)動機部件涂層設(shè)備

至成鍍膜機廠家碳基的汽車發(fā)動機部件涂層設(shè)備DLC涂層應(yīng)用于閥門和曲軸區(qū)域零部件，可減少高達40%的潤滑操作中的摩擦損失。優(yōu)良的干潤滑性能也彌補了減少的潤滑劑，直到油膜達到滿負荷并允許在沒有磨損情況下頻繁的啟停。

汽車發(fā)動機部件涂層真空鍍膜機通過降低摩擦和磨損服務(wù)于高負荷和高應(yīng)力部件，在之前只能通過減少零部件的尺寸和減少部件組成和材料組合才能實現(xiàn)。這導致的材料和裝配成本的節(jié)省超過了涂層成本。

真空鍍膜檢漏有哪3個過程?

真空鍍膜檢漏有哪3個過程？ (1)充壓過程是將被檢件在充有高壓示漏氣體的容器內(nèi)存放一定時間，如被檢件有漏孔，示漏氣體就可以通過漏孔進入被檢件的內(nèi)部，并且將隨浸泡時間的增加和充氣壓力的，被檢件內(nèi)部示漏氣體的分壓力也必然會逐漸升高。(2)凈化過程是采用干燥氮氣流或干燥空氣流在充壓容器外部或在其內(nèi)部噴吹被檢件。如不具備氣源時也可使被檢件靜置，以便去除吸附在被檢件外表面上的示漏氣體。在凈化過程中，因為有一部分氣體必然會從被檢件內(nèi)部經(jīng)漏孔流失，從而導致被檢件內(nèi)部示漏氣體的分壓力逐漸下降，而且凈化時間越長，示漏氣體的分壓降就越大。(3)檢漏過程則是將凈化后的被檢件放入真空室內(nèi)，將檢漏儀與真空室相連接后進行檢漏。抽真空后由于壓差作用，示漏氣體即可通過漏孔從被檢件內(nèi)部流出，然后再經(jīng)過真空室進入檢漏儀，按檢漏儀的輸出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。