鍍膜過程中產(chǎn)生噴點(diǎn)主要有以下幾種原因:

1、鍍膜材料純度不高，含雜質(zhì)較多,預(yù)熔過程中無法將這些雜質(zhì)去除,蒸鍍過程中雜質(zhì)濺上工件表面形成噴點(diǎn)。

2、材料較為潮濕,預(yù)熔時電子槍光斑不能將表面的材料全部熔化,在蒸鍍過程中也容易產(chǎn)生噴點(diǎn)(這種情況在用國產(chǎn)電子槍鍍制MgF2及一些直接升華的材料時較易發(fā)生)。

3、鍍膜前對材料進(jìn)行預(yù)熔時不夠充分,蒸鍍過程中材料里的細(xì)小顆粒濺上工件表面形成噴點(diǎn)。

4、鍍膜過程中,電子槍束流過大引起的材料飛濺產(chǎn)生的噴點(diǎn)。

手機(jī)真空納米鍍膜機(jī)的特點(diǎn)

(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。

(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，大大擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。

(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進(jìn)行比較的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。

真空鍍膜設(shè)備維護(hù)和保養(yǎng)方法：

（1）真空鍍膜設(shè)備每完成200個鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。

方法是：用（NaOH）飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁，（注意人體皮膚不可以直接接觸溶液，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾清洗精抽閥內(nèi)的污垢。

（2）當(dāng)粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續(xù)工作一個月（雨季減半），需更換新油。

方法是：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數(shù)秒，使泵內(nèi)的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量（油視鏡觀察）。連續(xù)使用半年以上，換油時應(yīng)將油蓋打開，用布擦干凈箱內(nèi)污垢。