電解拋光是指金屬制品在一定組成的溶液中進(jìn)行特殊的陽極處理以獲得平滑、光亮表面的精飾加工過程。

它既可以作制品電鍍前的表面準(zhǔn)備，也可作鍍后表面的精飾還可作為金屬表面獨(dú)立的精飾加工方法，電解拋光適用于有色金屬及其他硬度低的單相合金；如鋁合金、奧氏體不銹鋼、高錳鋼等。但電解拋光不適用于化學(xué)成分不均勻、顯微偏析嚴(yán)重的金屬及金屬基體的非金屬夾雜物的金相試樣，用塑料鑲嵌的試樣也不宜采用電解拋光，因?yàn)殡娊鈷伖鈺?huì)造成局部腐蝕嚴(yán)重。

電解拋光深圳不銹鋼電解拋光

  ②磷||酸-鉻酸-硫||酸酸性電解拋光法（Battle法），硫||酸能有效降低拋光操作電流密度、電壓，并在一定范圍內(nèi)容許在較高溫度下進(jìn)行電解拋光，同時(shí)還能抑制點(diǎn)蝕的發(fā)生，鉻酸提高鋁材拋光表面鏡面反射率。

  ③氟硼酸電解拋光工藝，以氟硼酸為主要成分電解液，這一工藝比較適合高純鋁材，其反射率可達(dá)到85%。

  ④硫||酸-鉻酸電解拋光工藝（Aluflex法），其槽液控制相對(duì)比較簡(jiǎn)單，在此拋光液中鋁的溶解速度在初期的2min相當(dāng)快，約為25μm左右。且當(dāng)槽液中鋁離子含量太高時(shí)，會(huì)出現(xiàn)光亮度不足或表面有附著物等缺陷。

為了獲得光澤的電解拋光表面,必須使表面上的微觀粗糙度低于光的波長(zhǎng).要達(dá)到這個(gè)目的,通常認(rèn)為應(yīng)該形成比中間黏液更厚、更致密，更易鈍化的緊密膜。這可以是趨于飽和的高黏度液膜，也可以是固體膜。這樣金屬的溶解是在固體膜內(nèi)進(jìn)行的，緊密膜的形成速度應(yīng)為超過該膜的溶解速度，這是存在緊密膜的前提。在幾乎無對(duì)流的特殊條件下，黏膜層變得十分厚，也更加緊密，甚至可以出現(xiàn)光的干涉色，在這樣厚的固體膜內(nèi)，陽極電流密度變得非常小、其可以使微觀凸起部位溶解，而凹入部位則不溶解，這就達(dá)到了微觀整平的目的，由于類似的狀態(tài)在金屬表面的各個(gè)部位都存在，使表面各個(gè)部分均發(fā)生微觀整平，這種表面的無序微觀整平的終結(jié)果就使金屬表面變得光亮。