湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務(wù)。

 公司為國內(nèi)早期從事專業(yè)輝光離子滲氮爐設(shè)備生產(chǎn)的廠商，是國內(nèi)輝光離子滲氮熱處理行業(yè)龍頭企業(yè)；湖北豐熱科技有限公司其旗下有武漢離子滲氮研究所、武漢欣杰熱處理有限公司。

離子滲碳從加熱、滲碳到淬火處理，都在同一裝置內(nèi)進行。這種裝置是具有輝光放電機構(gòu)的加熱滲碳室和油淬火室的雙室型熱處理爐。離子轟擊熱處理還可以進行離子碳氮共滲、離子硫氮共滲、離子滲金屬等，所以在國內(nèi)外具有很大的發(fā)展前途。

輝光離子滲氮的特點有：離子轟擊有凈化表面作用，自動去除鈍化膜，不銹鋼、耐熱鋼材料無需預(yù)先去除鈍化膜，可使不銹鋼、耐熱鋼工件直接滲氮。化合物層結(jié)構(gòu)、滲層厚度和組織可以控制。處理溫度范圍較寬，即使在350℃以下也能獲得一定厚度的滲氮層。

1933年德國Von Engel首1次報道了研究結(jié)果 ，利用冷卻的裸電極在大氣壓氫氣和空氣中實現(xiàn)了輝光放電，但它很容易過渡到電弧，并且必須在低氣壓下點燃，即離不開真空系統(tǒng)。1988年，Kanazawa等人報道了在大氣壓下使用氦氣獲得了穩(wěn)定的APGD的研究成果，并通過實驗總結(jié)出了產(chǎn)生APGD要滿足的三個條件：（1）激勵源頻率需在1kHz以上；裝爐有嚴格要求，裝爐不妥或形狀不同、大小不同的零件混裝爐容易出現(xiàn)滲層不均勻等疵病，造成廢品或返修。（2）需要雙介質(zhì)DBD；（3）必須使用氦氣氣體。此后，日本的Okazaki、法國的Massines和美國的Roth研究小組分別采用DBD的方法，用不同頻率的電源和介質(zhì)，在一些氣體和氣體混合物中宣稱實現(xiàn)了大氣壓下“APGD”。