湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務(wù)。

磁控靶的陰極接靶電源負(fù)極，陽極接靶電源正極，進(jìn)入正常濺射時(shí)，一定是在氣體放電伏-安特性曲線中的“異常輝光放電區(qū)段”?運(yùn)行。其特點(diǎn)是，隨著調(diào)節(jié)電源輸出的磁控靶工作電壓的增加，濺射電流也應(yīng)同步緩慢上升

輝光放電有亞正常輝光和反常輝光兩個(gè)過渡階段，放電的整個(gè)通道由不同亮度的區(qū)間組成，即由陰極表面開始，依次為：阿斯通暗區(qū)；陰極光層；輝光離子滲氮的特點(diǎn)有：離子轟擊有凈化表面作用，自動(dòng)去除鈍化膜，不銹鋼、耐熱鋼材料無需預(yù)先去除鈍化膜，可使不銹鋼、耐熱鋼工件直接滲氮。陰極暗區(qū)(克魯克斯暗區(qū))；負(fù)輝光區(qū)；法拉第暗區(qū)；正柱區(qū);陽極暗區(qū);陽極光層。其中以負(fù)輝光區(qū)、法拉第暗區(qū)和正柱區(qū)為主體。這些光區(qū)是空間電離過程及電荷分布所造成的結(jié)果，與氣體類別、氣體壓力、電極材料等因素有關(guān)，這些都可以從放電理論上作出解釋。

次大氣壓下輝光放電(HAPGD)由于大氣壓輝光放電技術(shù)目前雖有報(bào)道但技術(shù)還不成熟，沒有見到可用于工業(yè)生產(chǎn)的設(shè)備。而次大氣壓輝光放電技術(shù)則已經(jīng)成熟并被應(yīng)用于工業(yè)化的生產(chǎn)中。次大氣壓輝光放電可以處理各種材料，成本低、處理的時(shí)間短、加入各種氣體的氣氛含量高、功率密度大、處理。??雙極性脈沖中頻靶電源，根據(jù)有無“串聯(lián)電壓調(diào)整”電路有分為“工藝型”和“經(jīng)濟(jì)型”兩種?？蓱?yīng)用于表面聚合、表面接枝、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學(xué)合成及各種粉、粒、片材料的表面改性和紡織品的表面處理。