湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術企業(yè)；是集研發(fā)、生產、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術服務。

濺射靶起輝放電后，當電源的輸出脈沖的重復頻率足夠高時，由于真空腔體內的導電離子還沒有完全被中和完畢，第二個(以后)重復脈沖的復輝電壓與濺射靶的工作電壓接近或相同。選用正弦波中頻靶電源，由于波形的原因，靶面產生打弧的幾率更低并優(yōu)于雙極性矩形波中頻靶電源。當電源輸出脈沖的重復頻率很低(例如幾百HZ以下)或滅弧時間過長(大于100ms以上)，濺射靶起輝放電后，由于真空腔體內的導電離子已基本被中和掉，第二個(以后)重復脈沖的復輝電壓恢復至較高數值，與點火起輝時的高電壓接近或相同。??

輝光放電是種低氣壓放電(Low pressure discharge)現象,工作壓力一般都低于10 mbar,其基本構造是在封閉的容器內放置兩個平行的電極板,利用產生的電子將中性原子或分子激發(fā),而被激發(fā)的粒子由激發(fā)態(tài)降回基態(tài)時會以光的形式釋放出能量。離子滲氮是在真空室內進行的，工件接高壓直流電源的負極，真空鐘單接正極。

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輝光放電時，在兩個電極附近聚集了較多的異號空間電荷，因而形成明顯的電位降落，分別稱為陰極壓降和陽極壓降。陰極壓降又是電極間電位降落的主要成分，在正常輝光放電時，兩極間的電壓不隨電流變化，即具有穩(wěn)壓的特性。

1992年，Roth小組在5mm氦氣間隙實現了APGD，并聲稱在幾個毫米的空氣間隙中也實現了APGD, 主要的實驗條件為濕度低于15% 、氣體流速50l/min、頻率為3kHz的電源并且和負載阻抗匹配。利用稀薄氣體的輝光放電現象加熱工件表面和電離化學熱處理介質，使之實現在金屬表面滲入欲滲元素的工藝稱為輝光放電離子化學熱處理，簡稱離子化學熱處理。他們認為“離子捕獲”是實現APGD的關鍵。