多弧離子真空磁控濺射鍍膜機工作原理蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)與工作原理介紹

多弧離子鍍膜機是一種、無害、無污染的離子鍍膜設(shè)備，具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡略、本錢低、出產(chǎn)量大的長處。

真空多弧離子鍍膜機偏壓電源的作業(yè)原理

離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜，關(guān)于導(dǎo)電靶材，運用直流偏壓電源；非導(dǎo)電靶材，運用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機，可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源

偏壓電源正本即是在陰極和樣品所在位置的陽極之間構(gòu)成偏壓電場，通常是陰極加負高壓。陰極外表的自由電子在電場效果下定向加快發(fā)射，發(fā)射電子炮擊氣體分子，使之電離，并且氣體被驅(qū)出的電子被電場加快，持續(xù)電離別的氣體分子，接二連三，構(gòu)成雪崩效應(yīng)，氣體被擊穿，構(gòu)成穩(wěn)定的電離電流。此刻離子也被加快，炮擊靶材，將靶材中的原子驅(qū)除出外表，并堆積在樣品外表。

真空電鍍設(shè)備的監(jiān)控方法

真空電鍍設(shè)備的監(jiān)控方法 1、目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因為薄膜在生長的過程中，由于干涉現(xiàn)象會有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準確，需要依靠經(jīng)驗。 2、極值監(jiān)控法：當(dāng)膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化，當(dāng)反射率或穿透率走到極值點的時候，就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長（入）的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因為當(dāng)反射率或者透過率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。 3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點不在監(jiān)控波長四分之一波位，然后由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點。

裝飾性真空鍍膜設(shè)備涂層的作用和要求

裝飾性真空鍍膜設(shè)備涂層的作用和要求 裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種。為了滿足產(chǎn)品的不同技術(shù)要求，可施涂底涂層和面涂層，或在面涂層上再施涂彩色涂層、保護涂層等。這些涂層的主要作用是： 提高膜層的結(jié)合力。采用相同的鍍膜方法，在塑料基體上施涂底涂層再真空鍍膜，可提高膜層的結(jié)合力。 降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度。一般鍍件表面都存在微觀不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填補鍍件表面的缺陷，使鍍件表面達鏡面平整度。 能保護金屬膜層。真空鍍膜層一般只有100nm，膜層的耐磨性和抗變色能力較差，施涂面涂層后，鍍膜層與外界不直接接觸，對鍍膜層能起保護作用。