等離子拋光采用的拋光技術(shù)是一種完全不同于傳統(tǒng)方法的新型拋光技術(shù)，此拋光技術(shù)是根據(jù)電化學(xué)原理與化學(xué)反應(yīng)原理而研發(fā)設(shè)計(jì)的。其拋光技術(shù)不使用對(duì)環(huán)境有污染和損害生產(chǎn)者健康的化學(xué)物品，但它的拋光效果卻能夠達(dá)到傳統(tǒng)方法很難達(dá)到的高品質(zhì)，拋光速度也是傳統(tǒng)拋光方法望塵莫及的，生產(chǎn)成本遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于傳統(tǒng)拋光成本。

 由于等離子拋光有這些特性存在，所以目前應(yīng)用的非常廣，并且有取代電解拋光的趨勢。

后效果為表面鏡光無任何紋路，表面棱角處產(chǎn)生R角有利于和其他部件的配合，尤其是按鍵。對(duì)工件的里面一樣拋光光亮。這塊運(yùn)用種等離子拋光主要作用在去除布輪紋，少一次清洗程序，成品率高。由于手工開初和收光的時(shí)間成本基本相同，所以結(jié)合等離子拋光有利于節(jié)約成本，主要效用在節(jié)約時(shí)間。

等離子拋光的工藝操作簡單：上掛——電拋——水洗——水洗——中和——水洗——噴淋——超聲波——烤干——下掛——包裝(或進(jìn)行后其它后工藝：如真空鍍膜及鍍膜，噴涂等)

等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝,僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng),分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi),因此等離子化學(xué)活化工件表面,去除表面分子污染層,交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。等離子就是在高溫高壓下，拋光鹽水溶，在高溫高壓下，電子會(huì)脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個(gè)帶正電的離子，當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時(shí)候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r，頃刻間會(huì)使物體達(dá)到表面光亮的效果。 對(duì)工件的任何一個(gè)面都能拋光。

這塊運(yùn)用這種等離子拋光主要作用在去除人工打磨紋路，少一次清洗程序，增加美觀度，成品率高。由于手工開初和人工打磨精光的時(shí)間成本基本相同，結(jié)合等離子拋光節(jié)約一定的成本，主要效用為大大提高i效率，提高成品率。

等離子拋光作為一種新的拋光工藝，是不銹鋼拋光的一種發(fā)展趨勢。如果能好的利用等離子拋光將為我們節(jié)省很多時(shí)間和成本。