因此，蝕刻部位的金屬不斷地溶解并在金屬的表面留下當(dāng)量電子，其反應(yīng)式

如下：

式中 M-蝕刻金屬的原子；

ne—溶解金屬留下的當(dāng)量電子數(shù)；

M ne—失去ne個(gè)電子的金屬離子，未水合化；

M ne.xH20—進(jìn)入電解液的金屬水合離子。

陰極上的反應(yīng)是電解溶液中的還原性物質(zhì)如氫離子、氧分子或金屬正離子等在陰極上得到電子，還原成氫氣析出或生成氫氧根負(fù)離子或金屬沉積物附著在陰極上，因此陰極反應(yīng)是各種還原反應(yīng)的結(jié)果。其電極反應(yīng)如下：2H 2e→H2↑2H20 02 4e→40H-M ne ne→M↓

從上可以看到，電解蝕刻主要是利用電流加快蝕刻部位金屬的溶解，而不是化學(xué)蝕刻那樣要加入各種添加劑，特別是催速劑。在某種條件下還可能一面將蝕刻的金屬溶解，另一方面又能將溶解的金屬在陰極上沉積而回收。從示意圖6—7上可以看到電解蝕刻需要有專用的電解設(shè)備、電源系統(tǒng)及配電設(shè)施，在實(shí)際操作時(shí)，還要有掛具和裝卸作業(yè)等。

無論是高精密 蝕刻機(jī) 還是片式蝕刻機(jī)，還是輥?zhàn)游g刻機(jī)，穩(wěn)壓泵輸出功率一定要大，才可以處理蝕刻速度更快，表面整平的難題。另外還一定要保證蝕刻機(jī)總體系統(tǒng)軟件不可以要走電現(xiàn)像，在蝕刻段如果有走電的現(xiàn)像，一是給作業(yè)者產(chǎn)生不安全的要素，還有一個(gè)就是說在半蝕刻表面會出現(xiàn)凸凹不平，等于電解法效用會另外開展，非常是是間越長，主要表現(xiàn)的現(xiàn)像會更顯著，有較強(qiáng)的不銹鋼拋光感。這類現(xiàn)像小編在304不銹鋼板模板中發(fā)覺此難題。

激光蝕刻機(jī)

設(shè)備適用于PET薄膜和Glass玻璃基底上的導(dǎo)電材料進(jìn)行高速激光刻蝕、剝離、蝕刻、刻線、劃片、材料去除、構(gòu)造。

適用材料

玻璃/薄膜表面氧化銦錫（ITO）、FTO、銀漿（Ag）、碳納米管（CNT）、石墨烯、納米銀、鉬鋁鉬、銅、高分子導(dǎo)電膜、鋁薄膜、PERC、鈣鈦礦電池、TCO、碳粉、氧化鋯、氧化鈦、氧化鋅、金等涂層材料的超細(xì)線寬激光蝕刻。可直接對白玻璃激光刻蝕、劃線，線寬小于10微米。

1、上色機(jī)

任何一件需求蝕刻的標(biāo)牌，在凸起的部分都要有抗蝕保護(hù)層，不然就會洼陷。而標(biāo)牌上洼陷的區(qū)域，也一定要填上油漆以起到裝飾與防護(hù)目的。這就需求標(biāo)牌加工廠具有一臺用于金屬腐蝕標(biāo)牌的電泳填漆工藝的上色機(jī)。

2、沖壓機(jī)

標(biāo)牌加工廠運(yùn)用的沖壓機(jī)通過電動機(jī)驅(qū)動飛輪，并通過離合器，傳動齒輪帶動曲柄連桿機(jī)構(gòu)使滑塊上下運(yùn)動，帶動拉伸模具對金屬板成型。并依據(jù)噸位的不同，沖壓標(biāo)牌的尺度是不一樣的。

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