制氫設(shè)備的應用

在制氫間應為單層不可燃材料建筑，制氫間應設(shè)置必要的泄壓面積,泄壓面積與廠房的比值(m2/m3)一般采用0.05-0.10。門窗及輕質(zhì)墻體可作為泄壓面積,泄壓面積應布置合理,并應靠近爆的部位,不應面對人員集中的地方和交通要道。

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?制氫設(shè)備中的電解

制氫設(shè)備中的電解槽中陰極材料都是一些金屬，這些金屬包括Pt，Ir，Ru及鉑鉻合金，鉑一直被認為是析氧的較好催化劑，但是在使用鉑的時候很容易產(chǎn)生一個問題：就是在電解中產(chǎn)生的微量金屬離子時，鉑因為欠電位沉積而很容易造成中du，在使用氧化物處理陰極能消除欠電位沉積并能產(chǎn)期保持鉑的高活性。

?制氫設(shè)備的原理

制氫設(shè)備原理是中靖氫能自主研發(fā)的復合制氫劑和水反應產(chǎn)生氫氣，產(chǎn)生氫氣傳度可達99.999%無任何含碳物質(zhì)生成。

制氫設(shè)備整個制氫過程無需任何外接電源，加入制氫劑和水即可反應產(chǎn)生高純度氫氣。

邯鄲派瑞氣體設(shè)備有限公司是集科研開發(fā)、設(shè)計生產(chǎn)、技術(shù)服務于一體的科研院所，科工委二級單位。主要從事高能化學、制氫及氫能源的開發(fā)、制氧、特種氣體、精細化工、石油核探測、環(huán)境工程、氣體分析、自動控制、變頻節(jié)能、空氣凈化等方面的專業(yè)研究設(shè)計。公司以服務用戶回報社會為生存的根本，以設(shè)計制造環(huán)保型、低耗型、可靠型的氣體設(shè)備為目標，昂首迎接未來、迎接市場和客戶的檢閱。