國內(nèi)外研究人員一直致力于開發(fā)取代電鍍的表面防護技術(shù)的研究,物理氣相沉積(PVD)技術(shù)作為一種環(huán)境友好技術(shù),具有很多其他技術(shù)所不具備的特點,通過控制其工藝參數(shù)可以得到晶粒細小、厚度均勻、膜基結(jié)合力優(yōu)異的鍍層;同時由于PVD是一種干法鍍技術(shù),可以避免濕法鍍時酸性或堿性電解質(zhì)溶液殘留在磁體孔隙內(nèi)和電鍍過程中磁體吸氫而導(dǎo)致鍍層脆裂的缺點。從半導(dǎo)體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業(yè)的發(fā)展來看，對真空鍍膜設(shè)備、技術(shù)、材料需求都在不斷增加，包括制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜。然而，PVD表面處理受批量生產(chǎn)成本和某些因素的限制,現(xiàn)在并沒有大規(guī)模生產(chǎn)應(yīng)用。

真空鍍膜的操作規(guī)程

1．在真空鍍膜機運轉(zhuǎn)正常情況下，開動真空鍍膜機時，須先開水管，工作中應(yīng)注意水壓。

2．在離子轟擊和蒸發(fā)時，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。

3．在用電子槍鍍膜時，應(yīng)在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃用鉛玻璃。

4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時排除有害粉塵。

5．有毒物品要妥善保管，以防。

6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進行，并要戴橡皮手套。

7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應(yīng)加蓋。

8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。

真空鍍膜設(shè)備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，分子束外延，激光濺射沉積等很多種。

真空鍍膜設(shè)備真空系統(tǒng)技術(shù)要求

真空系統(tǒng)能夠通過外接電極進行控制、監(jiān)測、加熱等磁控濺射鍍膜需要對工件進行烘烤除氣、用離子轟擊進行除氣和清洗以提高薄膜的質(zhì)量和結(jié)合力，除此之外還希望能夠監(jiān)測工件鍍膜時的溫度，在線控制薄膜厚度。

真空鍍膜設(shè)備膜層灰暗及發(fā)黑：(1)真空度低于0.67Pa。應(yīng)將真空度提高到0.13-0.4Pa。(2)氣的純度低于99.9％。應(yīng)換用純度為99.99％的氣。(3)充氣系統(tǒng)漏氣。應(yīng)檢查充氣系統(tǒng)，排除漏氣現(xiàn)象。(4)底漆未充分固化。應(yīng)適當(dāng)延長底漆的固化時間。(5)鍍件放氣量太大。應(yīng)進行干燥和封孔處理。真空鍍膜設(shè)備膜層表面光澤暗淡：(1)底漆固化不良或變質(zhì)。應(yīng)適當(dāng)延長底漆的固化時間或更換底漆。(2)濺射時間太長。在玻璃上，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃。應(yīng)適當(dāng)縮短。(3)濺射成膜速度太快。應(yīng)適當(dāng)降低濺射電流或電壓。