在內(nèi)外部需求回落的嚴(yán)峻形勢下，拋光機(jī)加大了“攻、夯基礎(chǔ)”的力度。2012年，一批世界拋光機(jī)裝備紛紛問世：二重研制成功航空工業(yè)等裝備所急需的8萬噸模鍛壓力機(jī)；工程機(jī)械行業(yè)多個(gè)企業(yè)研制成功了等重點(diǎn)工程施工所需的具備世界起吊能力的3000-4000噸級履帶起重機(jī)等。在內(nèi)外部需求回落的嚴(yán)峻形勢下，拋光機(jī)加大了“攻、夯基礎(chǔ)”的力度。2012年，一批世界拋光機(jī)裝備紛紛問世：二重研制成功航空工業(yè)等裝備所急需的8萬噸模鍛壓力機(jī)。

拋光罩及蓋可防止灰土及其他雜物在機(jī)器不使用時(shí)落在拋光織物上而影響使用效果。拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會影響終觀察到的組織，即不會造成假組織。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后者要求使用細(xì)的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。

解決這個(gè)矛盾的的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應(yīng)當(dāng)盡可能小；其次是精拋(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到。拋光機(jī)拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤應(yīng)平行并均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。