湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專(zhuān)業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務(wù)。

離子滲氮與氣體滲氮相比能源消耗少。由于離子氮化法利用輝光放電直接對(duì)工件進(jìn)行加熱。也無(wú)需特別的加熱和保溫設(shè)備，且可以獲得均勻的溫度分布，與間接加熱方式棚比加熱效率可提高2倍以上，達(dá)到節(jié)能效果，可大大降低處理成本。

利用稀薄氣體的輝光放電現(xiàn)象加熱工件表面和電離化學(xué)熱處理介質(zhì)，使之實(shí)現(xiàn)在金屬表面滲入欲滲元素的工藝稱(chēng)為輝光放電離子化學(xué)熱處理，簡(jiǎn)稱(chēng)離子化學(xué)熱處理。因?yàn)樵谥饕ぷ骺臻g內(nèi)是等離子體，故又稱(chēng)等離子化學(xué)熱處理。

兩種靶電源不同之處：選用(工藝型)雙極矩形波或正弦波中頻靶電源，因其輸出的電壓和電流的占空比可以大范圍連續(xù)調(diào)節(jié)，鍍膜時(shí)電源的工藝參數(shù)適應(yīng)范圍比“經(jīng)濟(jì)型”中頻靶電源要寬很多；1988年，Kanazawa等人報(bào)道了在大氣壓下使用氦氣獲得了穩(wěn)定的APGD的研究成果，并通過(guò)實(shí)驗(yàn)總結(jié)出了產(chǎn)生APGD要滿足的三個(gè)條件：（1）激勵(lì)源頻率需在1kHz以上。適用于需要經(jīng)常變化的磁控濺射鍍膜工藝和不同材質(zhì)的膜層。?(經(jīng)濟(jì)型)雙極性矩形波或正弦波中頻靶電源的輸出電壓或電流的工藝調(diào)節(jié)范圍偏窄，若相關(guān)參數(shù)選配合適，一般可用于磁控濺射鍍膜工藝相對(duì)固定和單一的工業(yè)生產(chǎn)中，其優(yōu)點(diǎn)是靶電源價(jià)格可以相對(duì)便宜。??