磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)的特點(diǎn)

(1)離子轟擊滲擴(kuò)更快因?yàn)檫x用低溫等離子無(wú)心插柳，為滲劑分子和正離子的吸咐和滲人造就了高寬比活性的表層，提升了結(jié)晶中缺點(diǎn)的相對(duì)密度，比傳統(tǒng)式的汽體滲擴(kuò)技術(shù)性速率明顯增強(qiáng)。在一樣加工工藝標(biāo)準(zhǔn)下，滲層深度1在0.05二以內(nèi)，比汽體滲擴(kuò)提升1倍。在較高溫度下，1h就能達(dá)lmm厚。磁控濺射設(shè)備的主要用途（1）各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。

(2)對(duì)鋼件表層改性材料成效顯著，工藝性能高，真空泵加溫易清除高溫冶煉廠時(shí)融解的汽體，并可根據(jù)滲人金屬材料更改PCB的機(jī)構(gòu)和構(gòu)造，使耐磨性能、耐蝕性、強(qiáng)度和斷裂韌性等眾多特性獲得改進(jìn)。而且因?yàn)榍謇砉πВ菇饘俨牧洗植诙葴p少，除去不銹鋼鈍化的殘?jiān)蛷U棄物，改進(jìn)了金屬材料的工藝性能。該設(shè)備的鍍膜室采用內(nèi)腔尺寸為6700mm×800mm×2060mm的箱式形狀,抽氣系統(tǒng)采用兩套K600擴(kuò)散泵機(jī)組,靶材采用德國(guó)Leybold公司生產(chǎn)的陶瓷靶,ITO薄膜基底是尺寸為1000mm×500mm×5mm的普通浮法玻璃。 

(3)加工工藝適應(yīng)能力強(qiáng)，有利于解決方式繁雜的鋼件。在裝飾設(shè)計(jì)裝飾品上的運(yùn)用：手機(jī)套、表帶、眼鏡框、五金配件、裝飾品等鍍一層薄薄的膜。傳統(tǒng)式的正離子注人技術(shù)性的致命性缺點(diǎn)是注人全過程是1個(gè)視野全過程，只能曝露在正離子搶口下的鋼件表層能夠被注人，針對(duì)鋼件中必須表層改性材料的內(nèi)表層或管溝表層等，離子束則很難達(dá)到，而且一回只有注一人鋼件，注人率低，機(jī)器設(shè)備繁雜價(jià)格昂貴

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鍍膜設(shè)備原理及工藝

主要濺射方式：

反應(yīng)濺射是在濺射的惰性氣體氣氛中,通入一定比例的反應(yīng)氣體,通常用作反應(yīng)氣體的主要是氧氣和氮?dú)狻?

直流濺射(DC Magnetron1 Sputtering)、射頻濺射(RF Magnetron1 Sputtering)、脈沖濺射(PulsedMagnetro n1 Sp uttering)和中頻濺射(Medium Fre2quency Magnetro2 n Sp uttering)

直流濺射方法用于被濺射材料為導(dǎo)電材料的濺射和反應(yīng)濺射鍍膜中,其工藝設(shè)備簡(jiǎn)單,有較高的濺射速率。

中頻交流磁控濺射在單個(gè)陰極靶系統(tǒng)中,與脈沖磁控濺射有同樣的釋放電荷、防止打弧作用。中頻交流濺射技術(shù)還應(yīng)用于孿生靶(Twin2Mag)濺射系統(tǒng)中,中頻交流孿生靶濺射是將中頻交流電源的兩個(gè)輸出端,分別接到閉合磁場(chǎng)非平衡濺射雙靶的各自陰極上,因而在雙靶上分別獲得相位相反的交流電壓,一對(duì)磁控濺射靶則交替成為陰極和陽(yáng)極。孿生靶濺射技術(shù)大大提高磁控濺射運(yùn)行的穩(wěn)定性,可避免被毒化的靶面產(chǎn)生電荷積累,引起靶面電弧打火以及陽(yáng)極消失的問題,濺射速率高,為化合物薄膜的工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)奠定基礎(chǔ)。如需了解更多磁控濺射鍍膜機(jī)的相關(guān)信息，歡迎關(guān)注創(chuàng)世威納網(wǎng)站或撥打圖片上的熱點(diǎn)電話，我司會(huì)為您提供專業(yè)、周到的服務(wù)。

連續(xù)式的磁控濺射生產(chǎn)線 總體上可以分為三個(gè)部分: 前處理, 濺射鍍膜, 后處理。

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磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)

1、靶材粒子能量高（比熱蒸發(fā)高出1個(gè)數(shù)量級(jí)），所制備膜層更致密，與石英片結(jié)合力更高：

2、一般備有輔助離子源，可以用來(lái)清洗石英片，清洗效果好；

3、易于制備熔點(diǎn)高的材料；

4、制備合金膜層，可以保證膜層材料比例與靶材相同；

5、由于裝有中和器，也可以用來(lái)制備絕緣膜層。

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磁控濺射鍍膜機(jī)

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目前國(guó)內(nèi)窗膜行業(yè)的批發(fā)商及終端店很多人都吃過磁控鍍銀膜氧化的虧，產(chǎn)品賣出后幾個(gè)月，開始大面積氧化，需要賠償，甚至還失去了客戶。特別是NSN系列在13、14年出的問題特別多，搞得很多人談磁控膜色變的地步。而在15、16年后，問題得到解決。慢慢地就沒多少氧化問題出現(xiàn)了。這也讓很多剛接觸磁控膜的人以為磁控膜都是鍍銀的膜，一說磁控膜就問會(huì)不會(huì)氧化。其實(shí)大可不必?fù)?dān)心，大部分的側(cè)檔都不是銀的，請(qǐng)放心使用。且這兩年的技術(shù)進(jìn)步，國(guó)內(nèi)各磁控工廠也找到了解決氧化的方法。其實(shí)在玻璃鍍膜行業(yè)，早就解決了氧化問題，我記得早期的low-e玻璃在鍍膜后必須在24小時(shí)內(nèi)合成中空，不然就會(huì)氧化。當(dāng)時(shí)low-e與中空都是鍍膜廠做的，下邊玻璃加工廠根本無(wú)法介入，而現(xiàn)在鍍膜廠只需生產(chǎn)玻璃鍍膜原片。且玻璃原片爆露在空氣中可達(dá)6個(gè)月以上，都不會(huì)氧化。這樣中空玻璃，一些門窗廠，幕墻公司、小規(guī)模的玻璃深加工工廠，都可以生產(chǎn)low-e中空玻璃了，加上政府政策的支持與引導(dǎo)，大大的加快了low-e玻璃的發(fā)展與普及。做窗膜磁控濺射鍍膜的應(yīng)多去看看玻璃行業(yè)的low-e鍍膜，多些交流。畢竟生產(chǎn)原理是一樣的東西，技術(shù)是相通的。很多東西是可以套用的，low-e鍍膜得到了規(guī)模化的發(fā)展，技術(shù)工藝已非常成熟了。窗膜磁控濺射鍍膜終是要與玻璃配套的，如何與玻璃上直接鍍膜做差異化發(fā)展，才是正道。就目前來(lái)說，僅從隔熱性能、保溫性能上與玻璃對(duì)抗，是不可能有成本上優(yōu)勢(shì)的。但都是鍍膜，如何做差異化，我目前也只是拋磚引玉，只有大家一起開動(dòng)腦袋了。由于鍍膜室為立式容器，所以它具有臥式鍍膜機(jī)的一切優(yōu)點(diǎn)，又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡，更可方便地實(shí)現(xiàn)自動(dòng)生產(chǎn)線，是替代傳統(tǒng)濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設(shè)備。