材料特性：衛(wèi)生保健、防腐蝕、優(yōu)良的可鑄性、出色的防腐蝕性、高強度、高硬度、原材料廉價、低熔點、抗蠕變、易與其他金屬形成合金、具有保健性、常溫下易碎、100攝氏度左右具有延展性。

典型用途： 電子產(chǎn)品元件。鋅是形成青銅的合金材料之一。鋅也有著清潔衛(wèi)生以及抗腐蝕的特性。另外，鋅也被應用在屋頂材料，照片雕刻盤、移動電話天線以及照相機中的快門裝置。

材料特性：非常高的強度、重量比優(yōu)良的抗腐蝕性、難以進行冷加工、良好的可焊接性、大約比鋼輕40%，比鋁重60%、低導電性、低熱脹率、高熔點。

典型用途： 高爾夫球桿、網(wǎng)球拍、便攜式電腦、照相機、行李箱、手術植入物、飛行器骨架、化學用具以及海事裝備等。另外，鈦也被用作紙張、繪畫以及塑料等所需的白色顏料。

利用現(xiàn)代物理、化學、金屬學和熱處理等學科的技術來改變零件表面的狀況和性質，使之與心部材料作優(yōu)化組合，以達到預定性能要求的工藝方法，稱為表面處理工藝。

表面處理的作用：提高表面耐蝕性和耐磨性，減緩、消除和修復材料表面的變化及損傷；使普通材料獲得具有特殊功能的表面；節(jié)約能源、降低成本、改善環(huán)境。

物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過氣相過程，在材料表面沉積一層薄膜的技術。

物理沉積技術主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡單、省材料、無污染；獲得的膜層膜基附著力強、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點。

廣泛用于機械、航空航天、電子、光學和輕工業(yè)等領域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導電、絕緣、光學、磁性、壓電、滑潤、超導等薄膜。

氣相沉積技術是指將含有沉積元素的氣相物質，通過物理或化學的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術。

根據(jù)沉積過程的原理不同，氣相沉積技術可分為物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)兩大類。

19世紀工業(yè)革命以來，為了適應耐磨耐高溫、耐酸堿腐蝕和高強度、高硬度等特殊要求，人們需要不斷開發(fā)各種特殊合金材料以滿足需求，然而這些合金材料往往成本高昂，而且多數(shù)情況下，難以同時滿足整體和表面的性能要求。金屬材料服役時不可避免的與環(huán)境相接處，而與環(huán)境真正接觸的是金屬表面，如各種機械零件和工程構件，甚至體內(nèi)植入材料等。當金屬表面發(fā)生破壞或失效，將嚴重影響其服役效果和使用壽命。1983年英格蘭伯明翰大學湯·貝爾提出表面工程的概念，利用量材料對金屬基體表面進行改性處理，使金屬表面得到保護和強化，解決單一材料無法解決的問題，從而大大提高產(chǎn)品的使用壽命和可靠性。