化學(xué)拋光中往往同時產(chǎn)生氫氣，這是在拋光具有氫脆敏感性材料時必須注意的問題。另外拋光液溫度高達(dá)100~200CC時，還會發(fā)生退火作用。為了把氫脆和退火作用的影響降到，就必須在適溫度范圍內(nèi)選擇盡可能短的拋光時間。

化學(xué)拋光與機(jī)械研磨拋光有本質(zhì)上的不同。

化學(xué)拋光是將被研磨面上的微小凸部與凹部相比較的情況下使其凸部優(yōu)先溶解，改善金屬表面粗糙度，獲得平滑光亮表面的過程。

化學(xué)拋光工藝有哪些特點？

首先，化學(xué)拋光設(shè)備簡單，無需電源設(shè)備。其次，化學(xué)拋光工藝不受制件外形尺寸限制，拋光速度快，生產(chǎn)。因為這些原因，化學(xué)拋光工藝也使得加工成本低廉。

化學(xué)拋光的優(yōu)點是：不需外加電源,可以處理形狀更為復(fù)雜的零件,生產(chǎn)等.但是化學(xué)拋光的表面質(zhì)量,一般略低于電解拋光,溶液的調(diào)整和再生也比較困難,往往拋光過程中會析出氧化氮等有害氣體。

被拋光表面的光亮度，可通過選用不同的工藝規(guī)范來控制。對某些光亮度要求很高的制件，僅用化學(xué)拋光不容易達(dá)到要求，通?；瘜W(xué)拋光的光亮度不及機(jī)械拋光，有時化學(xué)拋光后還需機(jī)械拋光?；瘜W(xué)拋光前，必須對拋光制件進(jìn)行清洗，包括除油污和除銹蝕。工藝的性較強。

化學(xué)拋光不只限于能獲得光亮的金屬表面，它還對金屬的許多物理原化學(xué)性質(zhì)及腐蝕性質(zhì)有良好的影響。眾所周知，化學(xué)拋光能改善金屬的光學(xué)性質(zhì)(反光系數(shù)或光反射率)和機(jī)械性能，減小金屬之間的摩擦系數(shù)，提高金屬在冷作狀態(tài)下的塑性變形能力，增大某些磁性材料的導(dǎo)磁系數(shù)，消除冷發(fā)射現(xiàn)象等

化學(xué)拋光一般是指在化學(xué)溶液中，不接通外部電源，利用化學(xué)侵蝕對工件表面進(jìn)行拋光的一個過程。在化學(xué)拋光進(jìn)行時，從微觀層面看，因為，金屬表面會形成類似電解拋光過程中形成的黏膜或者鈍化膜，所以，是表面微觀凸出部分的溶解速度，要明顯大于微光凹入部分，所以，提升了零件表面微觀平整度，從而達(dá)到零件表面的光亮平整。