鍍硬鉻鍍層粗糙有鉻瘤的原因及處理辦法

(1)陰陽極間距太近

提高鍍層的均勻性，只有改變初次電流分布，即改變幾何因素來提高鍍層的均勻性

處理方法：控制陰極與陽極間距離大于200mm，使工件的相對幾何尺寸縮小，保證陰極電力線分布均勻

(2)工件凸凹處未使用陰極保護(hù)

處理方法：采用陰極保護(hù)，合理布置陽極

為什么鍍鉻棒在電鍍的過程中會出現(xiàn)裂痕？

現(xiàn)在，鍍鉻棒在市面上銷售得很多，市場前景十分可觀，對于它的化學(xué)機(jī)理，我們都知道，但很多技術(shù)處理上的問題，就不是很多人都會清楚的了。

鍍鉻棒在電鍍的過程中出現(xiàn)裂痕到底是是什么原因呢？除鹽酸外的其他酸、堿、硫化物、碳酸鹽及大多數(shù)氣體與有機(jī)酸中有很高的化學(xué)穩(wěn)定性。電鍍硬鉻工藝在工業(yè)中廣泛應(yīng)用于機(jī)械零件、模具、汽車以及航空航天等職業(yè)。但是,鍍鉻棒具有很高硬度、耐磨性、耐腐蝕性和耐熱性.因?yàn)殄冦t棒在電鍍進(jìn)程中會發(fā)生很多的氫化鉻使內(nèi)應(yīng)力過大,招致鍍鉻層呈現(xiàn)裂紋。

電鍍鉻鍍液應(yīng)用廣的鍍鉻液是以硫酸根作為催化劑的鍍液，鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡單，使用方便。鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據(jù)鉻酐濃度的不同，可分為高濃度（350～500g/L）、中濃度（150～250g/L）和低濃度（50～150g/L）鍍鉻液。低濃度的鍍鉻液電流，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用于功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩(wěn)定，導(dǎo)電性好，電解時只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低，主要用于裝飾性鍍鉻及復(fù)雜件鍍鉻。除這鍍液外還有一些其它的鍍液，比如添加了加、氧化鎂、硫酸鍶、稀土金屬等的特殊鍍液，還有三價鉻等。