真空鍍膜主要利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材du(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動以加速靶材周圍的氣離子化,造成靶與氣離子間的撞擊機(jī)率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。

對于真空鍍膜加工單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因

主要是由于基片凹凸嚴(yán)重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。?

另外鏡片被鏡圈（）邊緣部遮擋、鏡圈（）臟在蒸鍍時污染鏡片等等也會造成膜色差異問題。?

改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。

改善對策：?

㈠?條件許可，用行星夾具；?

㈡?選用傘片平坦（R大）的機(jī)臺；?

㈢?根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。?

㈣?如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。?㈤?改善鏡圈（），防止遮擋。?

㈥?注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對邊緣鏡片的部分遮擋?㈦?清潔鏡圈（）?㈧?改善膜料蒸發(fā)狀況。

真空鍍膜廠家pvd真空鍍膜價格

CVD真空鍍膜廠家的TAC膜層特點(diǎn)及應(yīng)用：本公司為客戶提供質(zhì)高價優(yōu)的鍍膜服務(wù)，鍍制的主要膜層有TAC（金剛石膜），這種膜層有以下性能：

TAC膜層的特點(diǎn)：

1.    TAC(類金剛石)膜層有很高的硬度（HV6000）,優(yōu)良的耐磨性能，摩擦系數(shù)極低（低至0.08），膜層厚度1-2um

2.    具有優(yōu)異的耐蝕性，能耐各種酸、堿等腐蝕。

3.    對金屬、塑料、橡膠、陶瓷等均有良好的抗粘結(jié)和防咬合性能

4.    表面粗糙度低（可達(dá)鏡面級）

5.    與基體結(jié)合力很強(qiáng)，可以在各種鋼鐵、鈦合金、鋁合金、硬質(zhì)合金等材料上沉積

  電鍍加工廠告訴你電鍍是什么？，希望對大家有所幫助。

  電鍍：1：利用電解工藝，將金屬或合金沉積在鍍件表面，形成金屬鍍層的表面處理技術(shù)。 所屬學(xué)科：電力（一級學(xué)科）；配電與用電（二級學(xué)科） 定義2：利用電解在制件表面形成均勻、致密、結(jié)合良好的金屬或合金沉積層的過程。 所屬學(xué)科：機(jī)械工程（一級學(xué)科）；表面工程（二級學(xué)科）；電鍍與化學(xué)鍍（三級學(xué)科）