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泰安測(cè)厚儀廠(chǎng)家滿(mǎn)意的選擇“本信息長(zhǎng)期有效”

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發(fā)布時(shí)間:2020-08-18 06:20  







一六儀器 專(zhuān)業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線(xiàn)熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車(chē)電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

上照式:通常都有Z軸可移動(dòng),所以可對(duì)形狀復(fù)雜的樣品(如凹面內(nèi))做定位并且測(cè)試,一般可定位到2mm以?xún)?nèi)的深度,如Thick800A,另外有些廠(chǎng)商在此基礎(chǔ)上配備了可變焦裝置,搭配先進(jìn)的算法,可定位到80mm以?xún)?nèi)的深度,如XDL237

下照式:通常都沒(méi)有Z軸可移動(dòng),所以不可對(duì)凹面等無(wú)法直接接觸測(cè)試窗口的位置進(jìn)行定位并測(cè)試,但操作簡(jiǎn)單,造價(jià)相對(duì)低;部分廠(chǎng)商或款式儀器搭載變焦裝置也可測(cè)試復(fù)雜形狀樣品,同時(shí)也抬高了價(jià)格

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1~104的原子層或分子層。在此方向上,薄膜具有微觀(guān)結(jié)構(gòu)。

     理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。由于薄膜僅在厚度方向是微觀(guān)的,其他的兩維方向具有宏觀(guān)大小。所以,表示薄膜的形狀,一定要用宏觀(guān)方法,即采用長(zhǎng)、寬、厚的方法。因此,膜厚既是一個(gè)宏觀(guān)概念,又是微觀(guān)上的實(shí)體線(xiàn)度。

      由于實(shí)際上存在的表面是不平整和連續(xù)的,而且薄膜內(nèi)部還可能存在著、雜質(zhì)、晶格缺陷和表面吸附分子等,所以,要嚴(yán)格地定義和測(cè)量薄膜的厚度實(shí)際上是比較困難的。膜厚的定義應(yīng)根據(jù)測(cè)量的方法和目的來(lái)決定。  

經(jīng)典模型認(rèn)為物質(zhì)的表面并不是一個(gè)抽象的幾何概念,而是由剛性球的原子(分子)緊密排列而成,是實(shí)際存在的一個(gè)物理概念。

形狀膜厚:dT是接近于直觀(guān)形式的膜厚,通常以u(píng)m為單位。dT只與表面原子(分子)有關(guān),并且包含著薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響;

質(zhì)量膜厚:dM反映了薄膜中包含物質(zhì)的多少,通常以μg/cm2為單位,它消除了薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響(如缺陷、、變形等);

物性膜厚:dP在實(shí)際使用上較有用,而且比較容易測(cè)量,它與薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外部結(jié)構(gòu)無(wú)直接關(guān)系,主要取決于薄膜的性質(zhì)(如電阻率、透射率等)。


一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷(xiāo)售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素   厚度檢出限:0.005um

選擇Elite(一六儀器)X射線(xiàn)熒光鍍層測(cè)厚儀理由:

   根據(jù)IPC規(guī)程,必須使用整塊的標(biāo)準(zhǔn)片來(lái)校正儀器,對(duì)于多鍍層的測(cè)量,目前大多數(shù)客戶(hù)購(gòu)買(mǎi)的測(cè)厚儀采用的是多種箔片疊加測(cè)量校正,比如測(cè)量PCB板上的Au/Pd/Ni/Cu,因?yàn)闇y(cè)量點(diǎn)很小,測(cè)量距離的變化對(duì)測(cè)量結(jié)果有較大影響,如果使用Au,Pd,Ni三種箔片疊加校正,校正的時(shí)候箔片之間是有空氣,并且Pb元素與空氣的頻譜重疊,以上會(huì)對(duì)測(cè)量結(jié)果產(chǎn)生較大影響,Elite(一六儀器)測(cè)厚儀有電鍍好的整塊的Au/Pd/Ni/base標(biāo)準(zhǔn)片,不需要幾種箔片疊加校正,可以確保鍍層測(cè)量的準(zhǔn)確性。工業(yè)時(shí)代的科技是現(xiàn)代科技,科技是國(guó)之利器,國(guó)家要強(qiáng)大、人民生活要不斷改善,必須依托于強(qiáng)大科技。

2、采用微聚焦X射線(xiàn)管,油槽式設(shè)計(jì),工作時(shí)采用油冷,長(zhǎng)期使用時(shí)壽命更長(zhǎng)。微聚焦X射線(xiàn)管配合比例接收能實(shí)現(xiàn)高計(jì)數(shù)率,可以進(jìn)行測(cè)量。

3、Elite(一六儀器)WinFTM專(zhuān)用軟件,具有強(qiáng)大且界面友好、中英文切換,多可同時(shí)測(cè)量23層鍍層,24種元素,測(cè)量數(shù)據(jù)可直接以WORD格式或EXCEL格式輸出、打印、保存。能量色散X射線(xiàn)熒光光譜儀廣泛應(yīng)用于電子元器件、LED和照明、家用電器、通訊、汽車(chē)電子等制造領(lǐng)域。采用基本參數(shù)法(FP),有內(nèi)置頻譜庫(kù),無(wú)論是鍍層系統(tǒng)還是固體和液體樣品,都能在沒(méi)有標(biāo)準(zhǔn)片的情況下進(jìn)行準(zhǔn)確的分析和測(cè)量。

4、 Elite(一六儀器)針對(duì)PCB(印制電路板)線(xiàn)路板上的鍍層厚度及分析而設(shè)計(jì)的X射線(xiàn)熒光測(cè)厚儀(XDLM-PCB200/PCB210系列)具有以下特點(diǎn):1)工作臺(tái)有手動(dòng)和程序控制供客戶(hù)選擇,2)采用開(kāi)槽式設(shè)計(jì)和配置加長(zhǎng)型樣品平臺(tái),用于檢測(cè)大尺寸的線(xiàn)路板。打開(kāi)測(cè)試腔放入標(biāo)準(zhǔn)元素片Ag,通過(guò)調(diào)整移動(dòng)平臺(tái)滑軌和焦距旋鈕使軟件測(cè)試畫(huà)面清晰7。



江蘇一六儀器    X射線(xiàn)熒光光譜測(cè)厚儀

產(chǎn)品配置

X光金屬鍍層測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)配置為:X射線(xiàn)管,正比計(jì)數(shù)器﹨半導(dǎo)體探測(cè)器,高清攝像頭,高度激光,信號(hào)檢測(cè)電子電路。

性能指標(biāo)

X射線(xiàn)激發(fā)系統(tǒng) 垂直上照式X射線(xiàn)光學(xué)系統(tǒng)

空冷式微聚焦型X射線(xiàn)管,Be窗

標(biāo)準(zhǔn)靶材:Rh靶;任選靶材:W、Mo、Ag等

X射線(xiàn)管:管電壓50KV,管電流1mA

可測(cè)元素:CI~U

檢測(cè)器:正比計(jì)數(shù)管

樣品觀(guān)察:CCD攝像頭

測(cè)定軟件:薄膜FP法、檢量線(xiàn)法

Z軸程控移動(dòng)高度 20mm



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