臥式大型不銹鋼鍍膜機(jī)

該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于建筑五金裝飾，家具、燈具、賓館用具、汽車、航空等產(chǎn)品，設(shè)備性能各項(xiàng)指標(biāo)均達(dá)到水平，設(shè)備出口到歐美發(fā)達(dá)國際市場。臥式大型不銹鋼鍍膜機(jī)專為不銹鋼飾板離子鍍裝飾膜層設(shè)計(jì)，離子鍍膜層有真

實(shí)的金屬質(zhì)感，這是化學(xué)鍍不銹鋼彩板不能比擬的。該系列設(shè)備鍍室直徑1800~2300mm高3600~4400mm，可一次鍍1220x4000mm板3張；配三套大抽力真空機(jī)組，抽速快，工作周期短；采用圓形電弧靶34~56個(gè)，靶位合理布局，配脈沖偏壓系統(tǒng)，膜結(jié)合力好，彩色均勻，觸摸屏 PLC，可以實(shí)現(xiàn)電腦全自動(dòng)控制，自動(dòng)/手動(dòng)隨時(shí)切換，運(yùn)行性能可靠穩(wěn)定?？慑兘鹕?、銀色、槍色、黑色、玫瑰金色、咖啡色、七彩、藍(lán)色等裝飾膜。

機(jī)械/涂層鍍膜設(shè)備

將性能發(fā)揮限：F1、Nascar、MotoGP、WRC、OSS賽艇等，在這些運(yùn)動(dòng)中，每一盎司的重量都經(jīng)過精打細(xì)算。輕型現(xiàn)代材料的利用具有限制性，同時(shí)還減少摩擦損失。機(jī)械/涂層真空鍍膜機(jī)滿足上述要求。

摩擦和磨損：內(nèi)燃機(jī)內(nèi)部的摩擦造成大約百分之十的能效損失。主要的摩擦點(diǎn)來自活塞總成、氣門結(jié)構(gòu)和曲軸。由于齒輪需要大量的潤滑油以備潤滑，也會(huì)造成效率損失。

在零件表面使用HC涂層，從而增加負(fù)荷密度，降低潤滑需求。鈦等容易磨振和磨損的材料能夠應(yīng)用在上還是歸功于涂層和表面處理，涂層和表面處理能夠降低摩擦系數(shù)，提高硬度，同時(shí)還能保持基體材料本身的核心性能。

工程：至成鍍膜機(jī)廠家真空工程師從零件設(shè)計(jì)開始就與客戶合作，以滿足每一客戶的特定需求。

不僅僅只是涂層：為達(dá)到良好性能，愛恩邦德采用了大量專門研發(fā)的涂層表面預(yù)/后處理技術(shù)，與涂層相結(jié)合，能夠發(fā)揮涂層的優(yōu)勢性能。

真空鍍膜機(jī)酸洗應(yīng)該注意什么

酸洗設(shè)備應(yīng)在通風(fēng)設(shè)備上進(jìn)行，并戴上橡膠手套。把零件到清洗槽內(nèi)的酸或堿，要悄悄的，真空鍍膜機(jī)無磕碰和飛濺。此外，常用的酸洗槽盆應(yīng)加蓋。后，完成了這項(xiàng)作業(yè)，應(yīng)切斷水。

安全標(biāo)準(zhǔn)：真空體系，真空體系，高溫真空泵油加體系的運(yùn)用，真空鍍膜機(jī)稍有不小心燃燒的風(fēng)險(xiǎn)，所以在作業(yè)的過程中，有必要嚴(yán)厲操作過程中裝置和操作標(biāo)準(zhǔn)，要穩(wěn)重，熱泵經(jīng)歷人是風(fēng)險(xiǎn)的，旋轉(zhuǎn)部件也許損傷人的風(fēng)險(xiǎn)，所以要注意在生產(chǎn)過程中不行挨近的增壓泵和擴(kuò)散泵，滑閥泵與羅茨泵的手術(shù)前護(hù)罩有必要是完好的，人不行近。真空鍍膜機(jī)的設(shè)備卷繞體系也許是風(fēng)險(xiǎn)的損傷在操作過程中的人，真空鍍膜機(jī)所以在后掩蔽和清洗輥速度不太快，不超越30米/分鐘，速度不超越10米/分鐘的影片。

真空鍍膜機(jī)技術(shù)中的磁控濺射鍍膜優(yōu)勢所在鍍膜技能商品技能特色

據(jù)調(diào)查顯示，對(duì)于沉積速率，真空鍍膜機(jī)技術(shù)中的磁控濺射鍍膜運(yùn)用效果很好。有項(xiàng)研究就是對(duì)平衡磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜進(jìn)行各種對(duì)比。在這兩者之前，對(duì)其成膜的沉積速率的不同作出了實(shí)驗(yàn)研究。

在實(shí)驗(yàn)中，通過是平衡磁控濺射的基礎(chǔ)上增加附加的線圈來控制磁場的變化，形成非平衡磁控濺射條件，這種附加線圈可以改變磁場電流，調(diào)整在整個(gè)靶材表面所存在的磁場狀況，從而使其產(chǎn)生的離子密度更高，在研究數(shù)據(jù)中顯示，當(dāng)離子密度提高，成膜的沉積速率也相應(yīng)提高，通過這種調(diào)整電流的方式，可以提高磁控濺射鍍膜時(shí)的沉積速率。

把靶材與基底之間的距離改變，當(dāng)距離越大，沉積速率就越低，相反就越高，所以要設(shè)定好靶材與基底的距離，距離大了，離子隨著磁場所產(chǎn)生的電流沉積到基底上的時(shí)間就長了，在此時(shí)間內(nèi)受到真空鍍膜設(shè)備中的氣體散射的影響就多了，離子密度相對(duì)降低，距離短就受影響少，離子密度就高，但不是越短越好的，太短距離就相對(duì)減少成膜的面積，所以這個(gè)距離需要拿捏好，可以提高磁控濺射鍍膜時(shí)的沉積速率。從上述的表述我們可以知道，磁控濺射鍍膜機(jī)的技術(shù)還是十分有效的