光線射入玻璃基板時(shí)，會(huì)產(chǎn)生4%左右的反射而造成透過率的損失。但是，通過在玻璃基板上蒸鍍比玻璃的折射率更低的電介質(zhì)膜，可以改變玻璃基板的反射率。

調(diào)節(jié)電介質(zhì)膜的厚度使其光程(折射率n×膜厚d)為λ/4時(shí)，可以相互抵消玻璃基板和電介質(zhì)膜，電介質(zhì)膜和空氣的分界面的反射，將反射率降到較低。

但是，由于折射率受到薄膜材料的限制，所以反射率不能完全為零。而且，由于受玻璃基板折射率的限制，所以并不是所有玻璃基板都能得到防反射效果。

在真空鍍膜加工的上下表面都會(huì)發(fā)生反射，這樣兩束光相遇的時(shí)候，其光程差，其中n0是膜的折射率，d是膜的厚度。

自潤(rùn)滑性好：經(jīng)合金鍍液處理過的金屬表面是一種非晶態(tài)，即處于基本平面狀態(tài)，有自潤(rùn)滑性，因此摩擦系數(shù)小，非粘著性好。

成本低廉真空電鍍廠合金鍍不僅具備了以上傳統(tǒng)電鍍不可比較的優(yōu)點(diǎn)，且它的處理成本卻與電鍍相差無(wú)幾，甚至 略低于電鍍成本。

1、電鍍：利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場(chǎng)的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子，并在陰極上進(jìn)行金屬沉積的過程。

2、真空鍍膜加工：采用在真空條件下，通過蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜。

3、刷鍍適用于局部鍍或修復(fù)。電鍍液有酸性的、堿性的和加有鉻合劑的酸性及中性溶液，無(wú)論采用何種鍍覆方式，與待鍍制品和鍍液接觸的鍍槽、吊掛具等應(yīng)具有一定程度的通用性。