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因此也不具有很高的能量勢(shì)壘，以是化學(xué)鍍件前處置需求得到比護(hù)睛罩防霧處理件越發(fā)清潔、愈加具有平均活性的內(nèi)中。因而，化學(xué)鍍鍍前處置工作尤為事多，它事多影響著鍍液聽命、鍍層拆散力和鍍層風(fēng)致。

簡(jiǎn)單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

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如果護(hù)睛罩防霧處理的原子在基底表面的遷移率低，則護(hù)睛罩防霧處理會(huì)含有微孔。當(dāng)護(hù)睛罩防霧處理暴露于潮濕的空氣時(shí)，這些微孔逐漸被水汽所填充。

在沉積過程中，每一層的厚度均由光學(xué)或石英晶體監(jiān)控。這兩種技術(shù)各有優(yōu)缺點(diǎn)，這里不作討論。其共同點(diǎn)是材料蒸發(fā)時(shí)它們均在真空中使用，因而，折射率是蒸發(fā)材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。