低輻射鍍膜玻璃的出產(chǎn)工藝分為在線高溫?zé)峤獬练e法（在線法）和離線真空濺射法（離線法）。在線法出產(chǎn)的低輻射鍍膜玻璃能夠熱彎、鋼化，能夠單片運(yùn)用，膜層宜面向室內(nèi)；離線法出產(chǎn)的低輻射鍍膜玻璃耐酸堿性和耐磨性差，不能單片運(yùn)用，在組成中空玻璃時(shí)，應(yīng)將玻璃邊部和密封膠接觸部位的鍍膜去除，鍍膜面應(yīng)坐落中空氣體層內(nèi)，一般裝置在中空玻璃的第三面，以充分利用低輻射鍍膜玻璃優(yōu)異的保溫功能和遮陽功能。

光學(xué)鍍膜由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的，經(jīng)過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。光學(xué)薄膜的使用始于20世紀(jì)30年代。現(xiàn)代，光學(xué)薄膜已廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域，制造各種光學(xué)儀器。

吸收介質(zhì)：能夠是法向均勻的，也能夠是法向不均勻的，實(shí)際使用的薄膜要比抱負(fù)薄膜復(fù)雜得多，這是因?yàn)?，制備時(shí)，薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導(dǎo)致光束的漫散射，膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面，因?yàn)槟拥某砷L、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各向異性，膜層具有復(fù)雜的時(shí)刻效應(yīng)。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。