簡(jiǎn)單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下，能夠用光的干與理論來(lái)研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時(shí)，在它的兩個(gè)表面上發(fā)作屢次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確認(rèn)（見(jiàn)光在分界面上的折射和反射）。

使用前各電源開(kāi)關(guān)及操作按鈕應(yīng)處于斷開(kāi)位置，接通水源，氣源，電源。

1）打開(kāi)真空控制電源開(kāi)關(guān)。

2）開(kāi)維持泵對(duì)擴(kuò)散泵抽低真空，并測(cè)量前級(jí)真空度。

3）待前級(jí)壓力達(dá)到5.0*10pa后，開(kāi)擴(kuò)散泵加熱。

4）開(kāi)充氣閥，對(duì)鍍膜室充氣，打開(kāi)鍍膜室門，裝好清洗干凈的工件，關(guān)好爐門。

5）待擴(kuò)散泵正常工作一小時(shí)后，開(kāi)機(jī)械泵開(kāi)預(yù)抽閥，對(duì)真空室手抽真空至1.0*103pa，然后開(kāi)羅茨泵。

般金屬都具有較大的消光系數(shù)，當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí)，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光振幅迅速衰減，使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大，光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄膜材料是鋁，在可見(jiàn)光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常用作一些特種鍍膜的膜料。

(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。

(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的亞離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜。

(3)化學(xué)氣相沉積：通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過(guò)程。