?制氫設(shè)備的方法

制氫是目前工業(yè)使用較多的一種方法，同時純度也是較高的一種方法，純度可以達(dá)到99%以上，這是工業(yè)上制備氫氣的一種重要方法。在電解氫yang化鈉(鉀)溶液時，陽極上放出氧氣，陰極上放出氫氣。電解氯化鈉水溶液制造氫yang化鈉時，也可得到氫氣。

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?制氫設(shè)備的電極

制氫設(shè)備的電極是采用具有高催化性能的金屬或其氧化物，它們是以粉末形態(tài)覆蓋在電極的表面上，利用了一種叫Teflon黏合技術(shù)把這些粉末壓在了Nafion膜的兩面，利用這些穩(wěn)定的膜和電極形成了一個穩(wěn)定的結(jié)合體。

制氫設(shè)備的應(yīng)用

在制氫間應(yīng)為單層不可燃材料建筑，制氫間應(yīng)設(shè)置必要的泄壓面積,泄壓面積與廠房的比值(m2/m3)一般采用0.05-0.10。門窗及輕質(zhì)墻體可作為泄壓面積,泄壓面積應(yīng)布置合理,并應(yīng)靠近爆的部位,不應(yīng)面對人員集中的地方和交通要道。

制氫設(shè)備的過程

對氫氣進(jìn)行排空主要是因此水電解制氫設(shè)備工作過程中，生產(chǎn)出來的氫氣純度不夠，又或者是因?yàn)橹茪湓O(shè)備故障原因需要排空。氧氣系統(tǒng)與氫氣系統(tǒng)有很強(qiáng)的對稱性.裝置的工作壓力和槽溫也都以氧側(cè)為測試點(diǎn)。