隨著光學(xué)與電子信息科學(xué)、新材料科學(xué)的不斷融合，作為光電子基礎(chǔ)材料的光學(xué)玻璃在光傳輸、光儲(chǔ)存和光電顯示三大領(lǐng)域的應(yīng)用更是突飛猛進(jìn)，成為社會(huì)信息化尤其是光電信息技術(shù)發(fā)展的基礎(chǔ)條件之一。

能改變光的傳播方向，并能改變紫外、可見或紅外光的相對(duì)光譜分布的玻璃。狹義的光學(xué)玻璃是指無色光學(xué)玻璃；廣義的光學(xué)玻璃還包括有色光學(xué)玻璃、激光玻璃、石英光學(xué)玻璃、抗輻射玻璃、紫外紅外光學(xué)玻璃、纖維光學(xué)玻璃、聲光玻璃、磁光玻璃和光變色玻璃。光學(xué)玻璃可用于制造光學(xué)儀器中的透鏡、棱鏡、反射鏡及窗口等。在一定的γ射線、X射線輻照下，可見區(qū)透過率變化較少，品種和牌號(hào)與無色光學(xué)玻璃相同，用于制造高能輻照下的光學(xué)儀器和窺視窗口。由光學(xué)玻璃構(gòu)成的部件是光學(xué)儀器中的關(guān)鍵性元件。

如何對(duì)不同材質(zhì)的光學(xué)鏡片選擇對(duì)應(yīng)的拋光粉

光學(xué)鏡片經(jīng)過研磨液細(xì)磨后，其表面尚有厚約 2–3 m 的裂痕層，要消除此裂痕層的方法即為拋光。拋光與研磨的機(jī)制一樣，唯其所使用的工具材質(zhì)與拋光液 (slurry) 不同，拋光所使用的材料有絨布 (cloth)、拋光皮 (polyurethane) 及瀝青 (pitch)，通常要達(dá)到的拋光面，常使用的材料為拋光瀝青。按阿貝數(shù)大小分為冕類和火石類玻璃，各類又按折射率高低分為若干種，并按折射率大小依次排列。 

拋光與研磨所用的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)相同，除了拋光的工具與工作液體不一樣外，拋光時(shí)所需環(huán)境條件亦較研磨時(shí)嚴(yán)苛。一般拋光時(shí)要注意的事項(xiàng)如下：  

拋光瀝青的表面與拋光液中不可有雜質(zhì)，不然會(huì)造成鏡面刮傷。  

拋光瀝青表面要與鏡片表面吻合，否則拋光時(shí)會(huì)產(chǎn)生跳動(dòng)，因而咬持拋光粉而刮

光學(xué)玻璃的精密拋光的化學(xué)穩(wěn)定性

光學(xué)玻璃元件在制造和使用過程中，其拋光表面抵抗各種侵蝕性介質(zhì)作用的能力稱為光學(xué)玻璃的化學(xué)穩(wěn)定性。

1 抗潮濕大氣作用穩(wěn)定性RC（S）(表面法)

根據(jù)對(duì)潮濕大氣作用的穩(wěn)定性，分為三級(jí)：

1級(jí)—在溫度50℃，相對(duì)濕度80％的條件下，光學(xué)玻璃拋光表面形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間超過 20h；

2級(jí)—在相同試驗(yàn)條件下，形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間在5h～20h之間； 3級(jí)--在相同試驗(yàn)條件下，形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間不到5h。

光學(xué)玻璃

2抗酸作用穩(wěn)定性RA（S）(表面法)

根據(jù)對(duì)酸溶液作用的穩(wěn)定性，分為三級(jí)：

1級(jí)—在0.1N、溫度50℃醋l酸溶液作用下，光學(xué)玻璃拋光表面的破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間 超過5h；

2級(jí)—在相同試驗(yàn)條件下，破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間在1h～5h； 3級(jí)--在相同試驗(yàn)條件下，破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間不到1h。

光學(xué)玻璃高精化的方法

 在線電解修銳法（Elect roly tic Inprocess Dressing , 簡(jiǎn)稱ELID 法） 早期的在線電解休整磨削對(duì)光學(xué)玻璃進(jìn)行加工的方法，其得到的光學(xué)玻璃材料表面仍存在一些亞表面損傷和微裂紋，這些表面缺陷可以通過游離的磨粒進(jìn)行拋光而去除。因而，人們想找到一種更好的、能結(jié)合ELLD磨削的光整加工工藝。EL ID 磨削可用來進(jìn)行硬脆材料的、率磨削,而MRF 可用來進(jìn)行確定性形狀的修正與拋光。本文提出結(jié)合MRF 與EL ID 磨削的組合工藝對(duì)各種光學(xué)材料(如玻璃透鏡、碳化硅、硅晶玻璃等) 進(jìn)行超精密加工的方法,即采用EL ID 磨削進(jìn)行預(yù)拋光以率地獲得高質(zhì)量表面,然后采用MRF 以進(jìn)一步減小表面粗糙度和形狀誤差。對(duì)光學(xué)常數(shù)有特定要求，具有可見區(qū)高透過、無選擇吸收著色等特點(diǎn)。利用該組合加工工藝可以在短時(shí)間內(nèi)得到亞納米級(jí)的表面粗糙度和峰谷值為λ/ 20nm的形狀精度。由此可見，該方法是可取的。