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鍍鈦技術(shù)可增強(qiáng)模具脫模性,減少產(chǎn)品與模具粘結(jié),避免在生產(chǎn)過程中因使用脫模劑而污染塑件,保證紅酒杯塑件在脫模時(shí)不易拉傷,有效的提高產(chǎn)品質(zhì)量。
鍍鈦工藝還可增強(qiáng)模具表面硬度,減少原材料在高壓沖刷下對(duì)高光面造成的損傷,從而延長(zhǎng)模具壽命。
機(jī)械拋光技術(shù)對(duì)拋光工具要求甚高,需具備高質(zhì)量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等輔助品。基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.
b、壓強(qiáng)的大小. 為了保證膜層質(zhì)量,壓強(qiáng)應(yīng)盡可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(zhǎng)(cm)。
c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí),沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結(jié)構(gòu)疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結(jié)構(gòu)均勻致密,機(jī)械強(qiáng)度高,膜層內(nèi)應(yīng)力大.
d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時(shí),吸附原子的動(dòng)能隨之增大,形成的薄膜容易結(jié)晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí),則沒有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無定形態(tài)薄膜.
磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn),因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用.
1. 磁控濺射:
離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現(xiàn)象稱為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜.
磁控濺射的基本原理:
磁控濺射是在濺射區(qū)加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng),處于正交電場(chǎng)區(qū)E和磁場(chǎng)B中的電子的運(yùn)動(dòng)方程,