公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶(hù)的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

掩膜（MASK）：全稱(chēng)單片機(jī)掩膜，是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機(jī)生產(chǎn)的過(guò)程中把程序做進(jìn)去。優(yōu)點(diǎn)是：程序可靠、成本低。缺點(diǎn)：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時(shí)生產(chǎn)，供貨周期長(zhǎng)。

光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。當(dāng)提取道路或者河流，或者房屋時(shí)，通過(guò)一個(gè)n*n的矩陣來(lái)對(duì)圖像進(jìn)行像素過(guò)濾，然后將我們需要的地物或者標(biāo)志突出顯示出來(lái)。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。

待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過(guò)制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫(xiě)式光刻設(shè)備，如激光直寫(xiě)光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。

掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。掩膜（MASK）：全稱(chēng)單片機(jī)掩膜，是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機(jī)生產(chǎn)的過(guò)程中把程序做進(jìn)去。

掩模板是根據(jù)放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板?？瓷先ブ瓢婀に嚥皇翘珡?fù)雜，但要想制作出合格的印版，確實(shí)需要操作人員用心曬版，用心加工印版。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金屬鉻薄膜，通過(guò)類(lèi)似照相制版的方法制備而成。具有微納圖形結(jié)構(gòu)的掩模板通常使用電子束光刻機(jī)直接制備，其制作過(guò)程就是典型的光刻工藝過(guò)程，包括金屬各層沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過(guò)程。