線下清洗法該方法是針對設(shè)備出現(xiàn)污染比較嚴(yán)重的情況

線下清洗法

該方法是針對設(shè)備出現(xiàn)污染比較嚴(yán)重的情況，需要對設(shè)備進(jìn)行停機(jī)然后整機(jī)進(jìn)行清洗。

優(yōu)點：清洗效果好、提高設(shè)備的抗污染能力、設(shè)備清晰處理。

缺點：清洗時間廠，操作比較復(fù)雜，一般是在設(shè)備出現(xiàn)污染較為嚴(yán)重的時候?qū)υO(shè)備進(jìn)行的一種清洗方法，不過這種方法的清洗周期比較長一般是2-3個月清洗一次就行，或者是設(shè)備出現(xiàn)污染情況的時候?qū)υO(shè)備進(jìn)行清洗。

針對性清洗

有時候設(shè)備出現(xiàn)某個裝置或者環(huán)節(jié)出現(xiàn)污染的情況，這時候我們就要使用這第三種方法，針對性清洗法，對出現(xiàn)污染情況的裝置和環(huán)節(jié)進(jìn)行針對性清洗。

反滲透設(shè)備對進(jìn)水有較高的條件要求

反滲透作為一種新型的純物理脫鹽工藝，由于反滲透膜元件的結(jié)構(gòu)、材質(zhì)、脫鹽機(jī)理等條件的限制，反滲透設(shè)備對進(jìn)水有較高的條件要求：

溫度條件在1到45℃之間;

pH值必須在2到11的范圍之內(nèi);

有機(jī)物含量(COD，mg/L)應(yīng)該小于1.5;

濁度(NTU)應(yīng)該控制在1.0以下;

淤泥密度指數(shù)(SDI值)<4.0;

余氯含量<0.1mg/L(實際控制在0);

鐵含量(mg/L)：溶氧>5mg/L時，F(xiàn)e<0.05;

二氧化硅含量(mg/L)：濃水中SiO2<100;LSI：pHb-pHs<0;

Sr、B等易形成難溶鹽的離子：Ipb<0.8Ksp。

　　后三項通過添加阻垢劑可適當(dāng)提高其值。

　　若如果上述指標(biāo)某一項或幾項不達(dá)標(biāo)時，會對反滲透膜造成以下影響：

1、RO反滲透膜受金屬氧化物污染;

2、膠體污染;

3、RO反滲透膜結(jié)垢;

4、懸浮物污堵RO反滲透膜;

5、有機(jī)物及微生物等污染，導(dǎo)致出水COD升高。

水處理設(shè)備進(jìn)行調(diào)整試運前，土建施工應(yīng)完成下列工作：

（1）水處理室內(nèi)外的防腐蝕地面、防腐蝕溝道及中和池應(yīng)施工完畢，并驗收合格。排水、排渣溝道暢通無阻，溝蓋板齊全，板面與地面平齊；

（2）水處理室內(nèi)部粉刷、油漆，地面、平臺、階梯及門窗等，應(yīng)按設(shè)計要求施工完畢；

（3）實驗室上下水、通風(fēng)、空調(diào)、照明、電源及實驗臺等設(shè)施應(yīng)按設(shè)計要求施工完畢；

（4）酸堿儲存庫的構(gòu)筑物和防腐蝕與通風(fēng)設(shè)施應(yīng)全部施工完畢，驗收合格。

水處理設(shè)備所有裝置安裝完畢，并能投入使用。

與水處理系統(tǒng)有關(guān)的電氣、熱工、化學(xué)儀表及操作盤，均應(yīng)安裝校正完畢，指示正確，操作靈敏，并能投入使用（不包括程控裝置）。

照明和通訊設(shè)施，應(yīng)能滿足試運工作的正常進(jìn)行。

轉(zhuǎn)動機(jī)械應(yīng)經(jīng)分部試運合格。

所有管道、設(shè)備，均應(yīng)按有關(guān)規(guī)定的顏色涂漆完畢。

水處理設(shè)備所需濾料、交換劑及藥品的規(guī)格應(yīng)符合設(shè)計規(guī)定，數(shù)量應(yīng)滿足啟動試運行的需要，并裝填完畢。

水處理設(shè)備有哪些主要特點

⒈不改變水的化學(xué)性質(zhì)。

⒉除垢效果明顯。該設(shè)備安裝在水循環(huán)系統(tǒng)，對原有垢厚在2mm以下的，一般情況下30天左右可逐漸使其松動脫落，處理后的水垢呈顆粒狀，可隨排污管路排出，不會堵塞管路系統(tǒng)。舊垢脫落以后，在范圍內(nèi)不再產(chǎn)生新垢。

⒊設(shè)備體積小，安裝簡單方便，可長期無人值守使用。

鍋爐水處理設(shè)備特點功能

1、軟化水裝置整體設(shè)計配套合理，使樹脂的工作交換容量得以充分發(fā)揮。

2、省工：自動化程度高，無需設(shè)專人值守。

3、省水：軟化水裝置制水率達(dá)98%以上。

4、省電：采用虹吸再生原理，無需鹽泵，耗電量僅相當(dāng)于手動軟水設(shè)備的1%。

5、占地空間小：只需提供樹脂罐和鹽罐的占地空間，節(jié)省管路、鹽泵所占空間。