PVD真空鍍層按照膜層應(yīng)用來(lái)分類可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層：

裝飾膜層可以改善工件外觀裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕；硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命。

除油—去污—流水沖洗—去離子水沖洗—脫水

過(guò)清洗線后將工件掛到PVD治具上，放入烤箱烘烤干燥

薄膜的制備方法很多，主要有氣相法和液相法，其中氣相法又分為物理氣相沉積（PVD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）兩大類。

電弧蒸發(fā)鍍膜

在高真空下通過(guò)兩導(dǎo)電材料制成的電極之間產(chǎn)生電弧放電，利用電弧高溫使電極材料蒸發(fā)。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。

優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高造價(jià)低適用于具有一定導(dǎo)電性的難熔金屬、石墨等

缺點(diǎn)

    會(huì)飛濺出微米級(jí)的靶材料顆粒，影響薄膜質(zhì)量

利用高頻電磁場(chǎng)感應(yīng)加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。

離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著電力線方向運(yùn)動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī)，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動(dòng)半徑范圍內(nèi)的任何地方。因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī)，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動(dòng)半徑范圍內(nèi)的任何地方。